[发明专利]玻璃基板、黑色矩阵基板和显示面板有效
申请号: | 201980060611.6 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN112703172B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 德永博文;小林大介;小野和孝;竹中敦义;前柳佳孝 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | C03B18/14 | 分类号: | C03B18/14;C03C3/091;C03C17/32;C03C19/00;G02F1/1333 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨青;安翔 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 黑色 矩阵 显示 面板 | ||
1.一种玻璃基板,其为具有一对主表面和端面的玻璃基板,其中,
将从主表面起算的深度0.1μm~深度0.3μm的区域内的Sn原子浓度设为玻璃基板表层部的Sn原子浓度、并将从主表面起算的深度9.0μm~深度9.2μm的区域内的Sn原子浓度设为玻璃基板内部的Sn原子浓度时,
在至少一个主表面中,通过从玻璃基板表层部的Sn原子浓度中减去玻璃基板内部的Sn原子浓度而求出的表层扩散Sn原子浓度为2.0×1018原子/cm3以上且1.4×1019原子/cm3以下,
在所述至少一个主表面中,
在将通过对从所述主表面起算的深度0.1μm~深度0.5μm的区域内的Sn原子浓度的深度分布进行线性近似而求出的一次函数的斜率设为玻璃基板表层部的Sn原子浓度梯度时,所述玻璃基板表层部的Sn原子浓度梯度为-1.0×1023原子/cm4以上且-1.0×1022原子/cm4以下,
所述Sn原子浓度的单位为原子/cm3。
2.如权利要求1所述的玻璃基板,其中,所述玻璃基板包含无碱玻璃,并且
以氧化物基准的摩尔%表示,所述无碱玻璃含有:
64%~72%的SiO2、
9%~15%的Al2O3、
1%~9%的B2O3、
4%~12%的MgO、
3%~10%的CaO、和
0.5%~6%的SrO,并且
MgO、CaO、SrO和BaO的含量的合计为10%~22%。
3.如权利要求2所述的玻璃基板,其中,所述玻璃基板包含无碱玻璃,并且
以氧化物基准的摩尔%表示,所述无碱玻璃含有:
65.2%~66.9%的SiO2、
10.8%~13.5%的Al2O3、
1.2%~7.7%的B2O3、
5.7%~12%的MgO、
4.8%~9.7%的CaO、和
0.5%~5%的SrO,并且
MgO、CaO、SrO和BaO的含量的合计为12%~21%。
4.如权利要求2或3所述的玻璃基板,其中,所述无碱玻璃的应变点为650℃以上,并且所述无碱玻璃的50℃~350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7/℃~45×10-7/℃。
5.如权利要求2或3所述的玻璃基板,其中,以氧化物基准的摩尔%表示,所述无碱玻璃中的碱金属氧化物的含量为0.5%以下。
6.如权利要求2或3所述的玻璃基板,其中,所述玻璃基板利用浮法制造。
7.如权利要求2或3所述的玻璃基板,其中,所述至少一个主表面为通过进行研磨而形成的研磨面。
8.如权利要求7所述的玻璃基板,其中,所述研磨面的Stdi值为0.75以下,
所述Stdi值为利用AFM在1μm×1μm见方的观察视野中并且在256×256的像素数下获得的纹理方向指数。
9.一种黑色矩阵基板,其中,在权利要求2或3所述的玻璃基板中的所述主表面的至少一个面上形成有黑色矩阵膜。
10.一种显示面板,其中,所述显示面板具有权利要求9所述的黑色矩阵基板。
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