[发明专利]掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法

权利要求书

1.一种掩模的制造方法，该掩模用于形成OLED像素，其中，该方法包括以下步骤：

(a)准备掩模金属膜；以及

(b)在掩模金属膜的一面通过激光图案化形成掩模图案。

2.如权利要求1所述的掩模的制造方法，其中，

在步骤(b)中，激光具有毫微秒、飞秒、皮秒中任意一个脉宽。

3.如权利要求1所述的掩模的制造方法，其中，

在步骤(b)中，以掩模金属膜的厚度方向为基准，在掩模金属膜的上部照射焦点范围宽的激光，而越是向掩模金属膜的下部，照射焦点范围越窄的激光，从而进行激光图案化。

4.如权利要求1所述的掩模的制造方法，其中，

在步骤(b)中，以掩模金属膜的厚度方向为基准，以不贯穿掩模金属膜的程度进行蚀刻之后，以贯穿掩模金属膜的程度通过激光图案化形成掩模图案。

5.一种掩模支撑模板的制造方法，该模板(template)用于支撑OLED像素形成用掩模并使掩模与框架对应，其中，该方法包括以下步骤：

(a)准备掩模金属膜；

(b)将掩模金属膜粘合到一面形成有临时粘合部的模板上；以及

(c)通过在掩模金属膜的一面利用激光图案化形成掩模图案来制造掩模。

6.如权利要求5所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

在步骤(c)中，激光具有毫微秒、飞秒、皮秒中任意一个脉宽。

7.如权利要求5所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

在步骤(c)中，以掩模金属膜的厚度方向为基准，在掩模金属膜的上部照射焦点范围宽的激光，而越是向掩模金属膜的下部，照射焦点范围越窄的激光，从而进行激光图案化。

8.如权利要求5所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

在步骤(c)中，以掩模金属膜的厚度方向为基准，以不贯穿掩模金属膜的程度进行蚀刻之后，以贯穿掩模金属膜的程度通过激光图案化形成掩模图案。

9.如权利要求5所述的掩模支撑模板的制造方法，其中，

临时粘合部是可通过加热而分离的粘合剂或者粘合片材、可通过照射紫外线而分离的粘合剂或者粘合片材。

10.一种框架一体型掩模的制造方法，该框架一体型掩模由至少一个掩模与用于支撑掩模的框架形成为一体，其中，该方法包括以下步骤：

(a)将通过权利要求5所述的制造方法制造成的模板装载到具有至少一个掩模单元区域的框架上，以使掩模对应到框架的掩模单元区域；以及

(b)将掩模附着到框架上。