[发明专利]掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法

说明书

本发明涉及掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的掩模的制造方法作为OLED像素形成用掩模的制造方法，该方法包括以下步骤：(a)准备掩模金属膜(110)；以及(b)在掩模金属膜(110)的一面通过激光图案化(LE)形成掩模图案(P)。

技术领域

本发明涉及掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。更具体地，涉及一种能够准确地形成掩模的掩模图案并且可使掩模不发生变形且稳定地得到支撑并移动，掩模与框架形成一体时能够改善掩模与框架的粘合性且使各个掩模之间对准(align)精确的掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。

背景技术

作为OLED(有机发光二极管)制造工艺中形成像素的技术，主要使用FMM(FineMetal Mask，精细金属掩模)方法，该方法将薄膜形式的金属掩模(Shadow Mask，阴影掩模)紧贴于基板并且在所需位置上沉积有机物。

在现有的OLED制造工艺中，将掩模制造成条状、板状等后，将掩模焊接固定到OLED像素沉积框架并使用。一个掩模上可以具有多个与一个显示器对应的单元。另外，为了制造大面积OLED，可将多个掩模固定于OLED像素沉积框架，在固定于框架的过程中，拉伸各个掩模，以使其变得平坦。调节拉伸力以使掩模的整体部分变得平坦是非常困难的作业。特别是，为了使各个单元全部变得平坦，同时对准尺寸仅为数μm至数十μm的掩模图案，需要微调施加到掩模各侧的拉伸力并且实时确认对准状态的高度作业要求。

尽管如此，在将多个掩模固定于一个框架的过程中，仍然存在掩模之间以及掩模单元之间对准不好的问题。另外，在将掩模焊接固定于框架的过程中，掩模膜的厚度过薄且面积大，因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的问题；由于焊接过程中焊接部分产生的皱纹、毛刺(burr)等导致掩模单元的对准错位的问题等。

在超高清的OLED中，现有的QHD画质为500-600PPI(pixel per inch，每英寸像素)，像素的尺寸达到约30-50μm，而4K UHD、8K UHD高清具有比之更高的-860PPI，-1600PPI等的分辨率。如此，考虑到超高清的OLED的像素尺寸，需要将各单元之间的对准误差缩减为数μm左右，超出这一误差将导致产品的不良，所以收率可能极低。因此，需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并且使对准精确的技术，以及将掩模固定于框架的技术等。

发明内容

技术问题

因此，本发明是为了解决上述现有技术中的问题而提出的，其目的在于提供一种当制造掩模时可通过简单的工艺便可对掩模金属膜进行图案化且可执行细微图案化的掩模的制造方法及掩模支撑模板的制造方法。

此外，本发明的目的在于提供一种可使掩模不发生变形且稳定地得到支撑并移动的掩模支撑模板的制造方法。

此外，本发明的目的在于提供一种将掩模附着到框架上时能够改善掩模与框架的粘合性的掩模支撑模板的制造方法。

此外，本发明的目的在于提供一种将掩模附着到框架上之后可反复使用的掩模支撑模板的制造方法。

此外，本发明的目的在于提供一种使掩模与框架可构成一体型结构的框架一体型掩模的制造方法。

此外，本发明的目的在于提供一种能够防止掩模下垂或扭曲等的变形且准确地进行对准的框架一体型掩模的制造方法。

此外，本发明的目的在于提供一种明显缩短制造时间且使收率显著提高的框架一体型掩模的制造方法。

技术方案

本发明的上述目的通过一种掩模的制造方法来实现，该掩模用于形成OLED像素，其中，该方法包括以下步骤：(a)准备掩模金属膜；以及(b)在掩模金属膜的一面通过激光图案化形成掩模图案。