[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，其中，具有：

保持工序，使基板保持部保持基板；

旋转工序，使所述基板保持部旋转来使所述基板旋转；

上升工序，使包围所述基板保持部的外周的杯构件上升，使所述杯构件的上端位于比被所述基板保持部保持的所述基板的上表面高的上端位置；

斜面处理工序，从位于比所述上端位置低的位置的喷嘴的喷出口向被所述基板保持部保持的所述基板的上表面的端部喷出处理液；

拍摄工序，使相机拍摄从被所述基板保持部保持的所述基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，获得拍摄图像，在所述拍摄区域中，包括从所述喷嘴的所述喷出口喷出的处理液以及映现在所述基板的上表面的所述处理液的镜像；以及

监视工序，基于所述拍摄图像中的所述处理液与所述镜像，监视所述处理液的着落位置。

2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，

在所述拍摄图像中，包括所述处理液以及所述镜像的整体图像在所述处理液与所述镜像之间的边界弯曲；

在所述监视工序中，基于所述处理液的所述整体图像的弯曲位置求出所述着落位置。

3.根据权利要求2所述的基板处理方法，其中，

在所述监视工序中，从对所述拍摄图像进行了边缘检测处理以及二值化处理所获得的二值化图像中检测第一直线分量和第二直线分量，求出所述第一直线分量与所述第二直线分量之间的交点作为所述弯曲位置，所述第一直线分量是沿着所述处理液的喷出方向延伸的分量，所述第二直线分量是沿着所述镜像的喷出方向延伸的分量。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理方法，其中，

所述相机的曝光时间设定为基板旋转一圈所需要的时间以上。

5.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理方法，其中，

基于对在基板旋转一圈所需要的时间以上的时间内由相机所获得的多个拍摄图像进行积分或平均而得到的拍摄图像中的所述整体图像，求出所述着落位置。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的基板处理方法，其中，

在所述监视工序中，确定所述拍摄图像中的所述基板的周缘的位置，求出以所述基板的周缘的位置为基准的所述处理液的所述着落位置。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的基板处理方法，其中，

所述监视工序包括在求出的所述着落位置不在规定的范围内时，将此情况报知给报知部的工序。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的基板处理方法，其中，

在所述监视工序中，通过经机器学习的分类器将所述拍摄图像分类为着落位置无异常的类别以及着落位置有异常的类别中的任一个类别。

9.根据权利要求8所述的基板处理方法，其中，

在所述监视工序中，从所述拍摄图像中切出位于所述喷嘴的正下方且包括所述处理液以及所述镜像的区域，并将切出的区域的图像输入所述分类器。

10.一种基板处理装置，其中，具有：

基板保持部，保持基板并使所述基板旋转；

杯构件，包围所述基板保持部的外周；

升降机构，使所述杯构件上升，使所述杯构件的上端位于比被所述基板保持部保持的所述基板的上表面高的上端位置；

喷嘴，具有位于比所述上端位置低的位置的喷出口，从所述喷出口向被所述基板保持部保持的所述基板的上表面的端部喷出处理液；

相机，拍摄从被所述基板保持部保持的所述基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，获得拍摄图像，在所述拍摄区域中，包括从所述喷嘴的所述喷出口喷出的处理液以及映现在所述基板的上表面的所述处理液的镜像；以及

图像处理部，基于所述拍摄图像中的所述处理液与所述镜像，监视所述处理液的着落位置。