[发明专利]用于等离子体处理腔室的导热间隔件

权利要求书

1.一种等离子体处理腔室，包括：

腔室主体；

盖组件，所述盖组件耦接至所述腔室主体，从而限定处理空间，所述盖组件包括：

背板，所述背板耦接至所述腔室主体；

扩散器，所述扩散器包括从中穿过而形成的多个气体开口；和

导热间隔件，所述导热间隔件设置在所述背板与所述扩散器之间，以将热从所述扩散器传递至所述背板；和

基板支撑件，所述基板支撑件设置在所述处理空间内。

2.如权利要求1所述的等离子体处理腔室，其中所述导热间隔件直接接触所述扩散器的顶表面，所述多个气体开口从所述顶表面延伸至所述扩散器的底表面，并且所述导热间隔件包括矩形横截面。

3.如权利要求1所述的等离子体处理腔室，其中所述导热间隔件包括多个内面，所述多个内面部分地包围所述多个气体开口。

4.如权利要求1所述的等离子体处理腔室，进一步包括多个紧固件，所述多个紧固件至少部分地延伸通过所述导热间隔件，以将所述导热间隔件和所述背板耦接至所述扩散器，其中所述导热间隔件、所述背板、所述扩散器和所述多个紧固件各自包含铝。

5.如权利要求1所述的等离子体处理腔室，其中所述导热间隔件包括设置在所述扩散器的周边的相对侧上的一对长侧。

6.如权利要求5所述的等离子体处理腔室，其中所述导热间隔件的所述一对长侧中的每个长侧包括一组一个或多个导热间隔条，所述一组一个或多个导热间隔条以一距离间隔开，其中每组一个或多个导热间隔条的纵向长度大于所述距离。

7.如权利要求5所述的等离子体处理腔室，其中所述导热间隔件的所述一对长侧中的每个长侧包括两个或更多个导热间隔条和在所述两个或更多个导热间隔条之间的一个或多个间隙。

8.如权利要求1所述的等离子体处理腔室，进一步包括耦接至所述盖组件的RF功率源，以及通过所述盖组件与所述处理空间流体连通的气体源和远程等离子体源，其中所述背板包括形成在其中以接收冷却剂的冷却流动通道，并且所述导热间隔件与所述冷却流动通道的至少一部分竖直对准。

9.一种用于等离子体处理腔室的盖组件，包括：

背板；

扩散器，所述扩散器包括从中穿过而形成的多个气体开口；和

导热间隔件，所述导热间隔件设置在所述背板与所述扩散器之间，以将热从所述扩散器传递至所述背板。

10.如权利要求9所述的盖组件，其中所述导热间隔件部分地包围所述多个气体开口，所述导热间隔件包括两个或更多个侧，所述两个或更多个侧中的每个包括一组一个或多个导热间隔条。

11.如权利要求10所述的盖组件，其中所述两个或更多个侧设置在所述扩散器的周边的相对侧上并以一定距离间隔开，并且每组一个或多个导热间隔条的纵向长度大于所述距离。

12.如权利要求9所述的盖组件，进一步包括盖板，其中所述背板耦接至所述盖板，其中所述背板、所述扩散器和所述导热间隔件各自包含铝。

13.如权利要求9所述的盖组件，其中：

所述导热间隔件直接接触所述扩散器的顶表面；

所述导热间隔件包括矩形横截面；

所述背板包括形成在其中以接收冷却剂的冷却流动通道；和

所述导热间隔件与所述冷却流动通道的至少一部分竖直对准。

14.一种用于等离子体处理腔室的背板设备，包括：

背板，所述背板包括顶表面和底表面；和

导热间隔件，所述导热间隔件包括从所述背板的所述底表面突出的一个或多个突出部，所述导热间隔件与所述背板一体形成，以形成主体。

15.如权利要求14所述的背板设备，其中所述背板和所述导热间隔件各自包含铝。