[发明专利]具有干涉涂层的高耐磨性光学制品

权利要求书

1.一种光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有：

-厚度大于或等于250nm的单层子层，

-多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中：

所述光学制品具有根据ASTM F735-81标准确定的大于或等于7的拜耳值，并且

a)比率：

大于或等于1.5，和/或

b)所述干涉涂层包括至少一个折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm的高折射率层，并且通过在所述高折射率层形成时借助于离子束轰击所述高折射率层在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的所述高折射率层的沉积。

2.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层具有大于或等于300nm、优选地大于或等于350nm的厚度。

3.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层是基于SiO₂的层。

4.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层与所述干涉涂层直接接触。

5.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在低于1.6×10^-4mBar的压力下在真空室中进行的。

6.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在真空室中进行的，在所述沉积过程中不向所述真空室中供应补充气体。

7.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述比率R_D大于或等于2、优选地大于或等于2.1。

8.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述光学制品具有根据所述ASTM F735-81标准确定的大于或等于8的拜耳值。

9.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中：

a)所述比率R_D大于或等于1.5，并且

b)通过在所述高折射率层形成时借助于离子束轰击所述高折射率层在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55并且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的所述高折射率层的沉积。

10.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述干涉涂层是减反射涂层。

11.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述光学制品是眼科镜片。

12.一种制造根据前述权利要求中任一项所述的光学制品的方法，所述方法包括：

-提供光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，

-将具有外露表面且厚度大于或等于250nm的单层子层沉积到所述基材的主表面上，

-将多层干涉涂层沉积到所述子层的所述外露表面上，所述多层干涉涂层包括折射率大于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层，由此，获得有涂层的光学制品，所述光学制品具有根据所述ASTM F735-81标准确定的、大于或等于7的拜耳值，并且

a)比率：

大于或等于1.5，和/或

b)通过在所述高折射率层形成时借助于离子束轰击所述高折射率层在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55并且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的所述高折射率层的沉积。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，在沉积所述多层干涉涂层之前，使所述子层的所述外露表面经受离子轰击处理，并且其中，在真空室中进行所述子层的沉积，在所述沉积过程中不向所述真空室中供应补充气体。

14.根据权利要求12或13所述的方法，其中，所述多层干涉涂层的至少一个层、优选地除了距所述基材最远的层之外的每个层的外露表面经受离子轰击处理，然后沉积所述多层干涉涂层的后续层。