[发明专利]具有干涉涂层的高耐磨性光学制品

说明书

本发明涉及一种光学制品，所述光学制品具有根据ASTM F735‑81标准确定的、大于或等于7的拜耳值，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有厚度大于或等于250nm的单层子层、以及多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体。比率：(I)大于或等于1.5，和/或在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的高折射率层的沉积。

本发明涉及一种光学制品，所述光学制品包括涂覆有多层透明干涉涂层、典型地减反射涂层的基材，具有改进的耐磨性和良好的耐热性，特别是涉及一种眼科镜片，并且涉及一种制造这种光学制品的方法。

对光学基材的至少一个主表面涂覆若干涂层以便为成品制品赋予附加的或改进的光学特性或机械特性是本领域的惯常做法。这些涂层通常指定为功能涂层。

可以用于赋予多种机械特性和/或光学特性的各种涂层可以是耐冲击涂层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层、减反射涂层和/或反射涂层、和/或防污层和/或防雾层。

在文献中可以找到改进对环境引起的划伤敏感的光学制品的耐磨性的不同方法。例如，比如在JP 2003-195003和JP 2003-294906中已经提出了增加减反射涂层的总厚度，其中描述了一种镜片，所述镜片涂覆有底漆涂层、硬涂层、以及7层减反射涂层，所述减反射涂层包括交替的SiO₂层和TiO₂层，后者在离子辅助下沉积并且已知对于光降解作用是敏感的。

US 8982466涉及一种光学镜片，所述光学镜片具有硬涂层和多层减反射涂层，其中，由TiO₂制成的高折射率层总共具有小于40nm的厚度。

EP 2775341披露了一种眼镜镜片，所述眼镜镜片具有硬涂层、360-390nm厚的SiO₂子层、以及由SiO₂、ZrO₂和/或Ta₂O₅制成的4层干涉涂层，其中，所述层具有特定的纳米压痕硬度和压应力，并且通常通过离子辅助气相沉积来沉积。这种沉积技术增加了压应力，并且因此可能导致分层。

JP 2002-122820描述了一种有硬涂层的基材，所述有硬涂层的基材涂覆有物理厚度为89-178nm(光学厚度：在520nm，为0.25-0.5λ)的SiO₂子层和4层减反射涂层(ZrO₂/SiO₂/ZrO₂/SiO₂)。根据本文件，通过能够使涂层厚度和各种材料层之间的应力平衡，可以达到高临界温度。然而，研究的唯一参数是子层的厚度。其厚度应使得比率(SiO₂层(包括子层)的物理厚度之和)/(ZrO₂层的物理厚度之和)的范围是2到3。认为较高的比率是不希望的，因为减反射涂层的耐久性会降低。

US 7692855披露了一种具有减反射特性和高耐热性的光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面涂覆有多层减反射涂层，其中，低折射率层的物理厚度/高折射率层的物理厚度的比率一般大于2.1。

US 2008/206470涉及一种用于制造具有减反射特性或反射特性的光学制品的方法，光学制品包括子层、子层和多层堆叠体。为了增加光学制品的耐磨性，必须在沉积步骤期间在真空室中在供应附加气体的情况下沉积子层，并且必须使子层的外露表面经受离子轰击处理，然后沉积多层堆叠体。

欧洲专利申请EP 3392680提出控制干涉涂层中的层的厚度，以便增加光学制品的耐磨性，即，使用大于或等于2的外部低折射率层/外部高折射率层的物理厚度之比。