[发明专利]用于容器的光罩支撑件

说明书

本发明公开一种用于支撑工件的容器，所述工件包含围绕所述工件的上边缘及下边缘的倒角。所述容器包含门及能够与所述门耦合以在所述容器内界定隔离环境的壳体。所述容器包含安装到所述门的工件支撑件。所述工件支撑件包含支撑柱。所述支撑柱经配置以在工件的边角处支撑所述工件。所述支撑柱包含第一倾斜壁。第二倾斜壁在所述第一倾斜壁的底部处。所述第二倾斜侧壁经配置以支撑工件。所述第一倾斜壁及所述第二倾斜壁以不同非零斜率定向。

相关申请案的交叉引用

本申请案要求2018年11月7日申请的第62/756,932号美国临时申请案的权益及优先权，所述申请案的全部内容出于所有目的以引用方式并入本文中。

技术领域

本公开大体上涉及一种用于在半导体晶片厂中转移工件(例如光罩)的容器。更具体而言，本公开涉及一种用于工件(例如光罩)的支撑件，所述支撑件在不接触光罩的临界表面的情况下支撑光罩。

背景技术

在半导体装置的制造期间，半导体上的各个层的图案容纳在被称为光罩的掩模上。光罩是在其上已通过光刻或类似者形成图案的光学透明石英衬底。特定来说，在经涂覆光罩坯料上施加光致抗蚀剂层。此后，例如通过激光图案生成器或电子束将待形成在半导体晶片上的选择层的图案转印到光罩上。在光致抗蚀剂上生成图案之后，移除光致抗蚀剂的经曝光部分以使涂覆层的非所要部分暴露。接着，蚀除这些非所要部分。接着在光罩上的表面上留下清洁图案的工艺中移除剩余光致抗蚀剂。光罩的表面必须维持在清洁状态，且因此对于避免粒子生成至关重要。

发明内容

本公开大体上涉及一种用于在半导体晶片厂中转移工件(例如光罩)的容器。更具体来说，本公开涉及一种用于工件(例如光罩)的支撑件，所述支撑件在不接触光罩的临界表面的情况下支撑光罩。

公开一种用于支撑工件的容器，所述工件包含围绕所述工件的上边缘及下边缘的倒角。所述容器包含门及能够与所述门耦合以在所述容器内界定隔离环境的壳体。所述容器包含安装到所述门的工件支撑件。所述工件支撑件包含支撑柱。所述支撑柱经配置以在所述工件的边角处支撑工件。所述支撑柱包含一对第一倾斜壁。一对第二倾斜壁在所述一对第一倾斜壁的底部处。所述一对第二倾斜侧壁经配置以在所述边角处支撑工件的邻接侧。所述一对第一倾斜壁及所述一对第二倾斜壁以不同非零斜率定向。

还公开一种用于支撑工件的容器。所述工件包含围绕所述工件的上边缘及下边缘的倒角。所述容器包含门及壳体。所述壳体能够与所述门耦合以界定隔离环境。工件支撑件经固定到所述门。所述工件支撑件包含支撑柱。所述支撑柱经配置以支撑工件。所述支撑柱包含相对于彼此成角度的一对第一倾斜壁。一对第二倾斜壁在所述一对第一倾斜壁的底部处相对于彼此成角度。所述一对第二倾斜壁经配置以支撑所述工件的邻接侧。所述一对第一倾斜壁及所述一对第二倾斜壁以不同非零斜率定向。

还公开一种用于支撑工件的容器。所述工件包含围绕所述工件的上边缘及下边缘的倒角。所述容器包含门及能够与所述门耦合以在所述容器内界定隔离环境的壳体。所述容器包含安装到所述门的工件支撑件。所述工件支撑件包含支撑柱。所述支撑柱经配置以支撑工件。所述支撑柱由一对第一倾斜壁及所述一对第一倾斜壁的底部处的一对第二倾斜壁组成。所述一对第二倾斜壁经配置为支撑工件的邻接侧的唯一接触点。所述一对第一倾斜壁及所述一对第二倾斜壁以不同非零斜率布置。

附图说明

参考形成本公开的一部分且说明其中可实践本说明书中所描述的系统及方法的实施例的附图。

图1A是根据本公开的实施例的容器及在就座在所述容器的支撑结构上之前的工件的透视图。

图1B是根据本公开的实施例的所述容器及在就座在所述容器的所述支撑结构上时的图1A的工件的透视图。

图2是根据本公开的实施例的图1A及1B中所展示的容器的平面视图。