[发明专利]分光光度计和分光分析装置、以及分光光度计的制造方法

权利要求书

1.一种分光光度计，其特征在于，包括：

光源；

聚光透镜，该聚光透镜对从所述光源释放的光进行聚光；

狭缝，该狭缝衍射由所述聚光透镜进行聚光后的光；

凹面衍射光栅，该凹面衍射光栅对通过所述狭缝的光进行分光；以及

多波长检测器，该多波长检测器具有对由所述凹面衍射光栅分光后的光进行检测的多个光检测元件，

所述多波长检测器所具有的多个所述光检测元件中的各个配置在所述凹面衍射光栅的成像位置。

2.如权利要求1所述的分光光度计，其特征在于，

所述多波长检测器进一步具有：基板，该基板由线膨胀系数与构成所述凹面衍射光栅的主基板相同的材料构成；以及柔性布线基板，该柔性布线基板固定在所述基板上并且配置有多个所述光检测元件。

3.如权利要求2所述的分光光度计，其特征在于，

所述基板的固定有所述柔性布线基板的一侧的表面为曲面状。

4.如权利要求3所述的分光光度计，其特征在于，

形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为等间隔，

多个所述光检测元件配置在罗兰圆上。

5.如权利要求3所述的分光光度计，其特征在于，

形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为不等间隔，

多个所述光检测元件配置在双纽线上。

6.如权利要求2所述的分光光度计，其特征在于，

将所述多波长检测器的所述柔性布线基板与所述基板粘接的粘接层的材料与用于所述凹面衍射光栅的粘接层的材料具有相同的线膨胀系数。

7.如权利要求2所述的分光光度计，其特征在于，

所述基板由与所述凹面衍射光栅的所述主基板相同的材料构成。

8.如权利要求1所述的分光光度计，其特征在于，

所述光检测元件中的各个分别配置在成像位置，以检测所有的进行了所述分光后的光。

9.一种分光光度计，其特征在于，包括：

光源；

聚光透镜，该聚光透镜对从所述光源释放的光进行聚光；

狭缝，该狭缝衍射由所述聚光透镜聚光后的光，

凹面衍射光栅，该凹面衍射光栅对通过所述狭缝的光进行分光；以及

多波长检测器，该多波长检测器具有对由所述凹面衍射光栅分光后的光进行检测的多个光检测元件，

配置于所述多波长检测器的表面的光检测元件用掩模的各个开口部配置在所述凹面衍射光栅的成像位置。

10.如权利要求9所述的分光光度计，其特征在于，

所述光检测元件用掩模安装在表面为曲面状的基板上，并且多个所述光检测元件配置于所述基板的所述曲面状的表面的相反侧的表面侧。

11.如权利要求10所述的分光光度计，其特征在于，

形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为等间隔，

所述开口部配置在罗兰圆上。

12.如权利要求10所述的分光光度计，其特征在于，

形成于所述凹面衍射光栅的表面的槽的槽周期为不等间隔，

所述开口部配置在双纽线上。

13.如权利要求10所述的分光光度计，其特征在于，

多个所述光检测元件配置在平面上。

14.一种分光分析装置，该分光分析装置分析试料，所述分光分析装置的特征在于，包括：

多个反应容器，该多个反应容器收纳使所述试料和试剂混合并进行反应而得到的反应液；以及

如权利要求1或9所述的分光光度计，所述分光光度计使光照射至所述反应容器，并且对从保持在所述反应容器中的所述反应液射出的光进行检测。

15.一种分光光度计的制造方法，该分光光度计包括：光源；聚光透镜，该聚光透镜对从所述光源释放的光进行聚光；狭缝，该狭缝衍射由所述聚光透镜进行聚光后的光；凹面衍射光栅，该凹面衍射光栅对通过所述狭缝的光进行分光；以及多波长检测器，该多波长检测器具有对由所述凹面衍射光栅分光后的光进行检测的多个光检测元件，所述分光光度计的制造方法的特征在于，包括：

将配置于所述多波长检测器的表面的光检测元件用掩模的各个开口部配置在所述凹面衍射光栅的成像位置的工序。