[发明专利]光学调制器的控制

权利要求书

1.一种用于极紫外(EUV)光源的装置，所述装置包括：

光学调制系统，包括电光材料，所述光学调制系统被配置为接收脉冲光束，所述脉冲光束包括在时间上彼此分开的多个光脉冲；以及

控制系统，被配置为控制电源，使得：在第一光脉冲入射在电光调制器上的同时第一电脉冲被施加至所述电光材料，在第二光脉冲入射在所述电光材料上的同时第二电脉冲被施加至所述电光材料，并且在所述第一光脉冲入射在所述电光材料上之后并且在所述第二光脉冲入射在所述电光材料上之前，中间电脉冲被施加至所述电光材料。

2.根据权利要求1所述的装置，其中向所述电光材料施加所述第一电脉冲在所述电光材料中引起物理效应，并且当所述中间电脉冲被施加至所述电光材料时，所述物理效应存在于所述电光材料中。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述物理效应包括在所述电光材料中行进的声波和/或机械应变。

4.根据权利要求2所述的装置，其中向所述电光材料施加所述中间电脉冲减少了所述物理效应。

5.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一光脉冲和所述第二光脉冲是所述脉冲光束中的连续光脉冲。

6.根据权利要求1所述的装置，其中所述控制系统被配置为控制所述第一电脉冲与所述中间电脉冲之间的时间量。

7.根据权利要求1所述的装置，其中所述电光材料包括半导体。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述电光材料包括绝缘体。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述电光材料包括电光晶体。

10.根据权利要求1所述的装置，还包括至少一个基于偏振的光学元件。

11.根据权利要求1所述的装置，其中所述中间电脉冲产生声学扰动，所述声学扰动干扰所述第一电脉冲所引起的声学扰动。

12.一种用于形成光学脉冲的装置，所述装置包括：

光学调制系统，包括电光材料，所述光学调制系统被配置为在开启状态下透射光并且在关闭状态下阻挡光，并且所述光学调制系统被配置为接收脉冲光束，所述脉冲光束至少包括在时间上彼此分开的第一光学脉冲和第二光学脉冲；以及

控制系统，耦合到电压源，所述控制系统被配置为：

通过在所述第一光学脉冲入射在所述电光调制器上的同时使得所述电压源向所述电光调制器施加第一电压脉冲来生成第一形成的光学脉冲，所述第一电压脉冲被配置为将所述电光调制器切换到所述开启状态；

向所述电光材料施加中间电压脉冲；以及

在施加所述第一电压脉冲和所述中间电压脉冲之后并且在所述第二光学脉冲入射在所述电光材料上的同时，通过向所述电光材料施加第二电压脉冲来生成第二形成的光学脉冲，其中所述第二电压脉冲被配置为将所述电光调制器切换到所述开启状态，并且所述第二形成的光学脉冲的特性通过向所述电光材料施加所述中间电压脉冲来控制。

13.根据权利要求12所述的装置，其中所述第二形成的光学脉冲包括基座部分和主部分，并且所述第二形成的光学脉冲的所述特性包括所述基座的特性，使得所述基座部分的所述特性通过向所述电光材料施加所述中间电压脉冲来控制。

14.根据权利要求13所述的装置，其中所述基座部分和所述主部分在时间上连续。

15.根据权利要求13所述的装置，其中所述基座部分的所述特性包括所述基座部分的持续时间、最大强度和/或平均强度。

16.根据权利要求12所述的装置，其中向所述电光材料施加所述中间电压脉冲修改了处于所述关闭状态的所述光学调制系统所透射的光学泄漏的光的量。