[发明专利]阻挡膜有效

专利信息
申请号: 201980070492.2 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN112912540B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 慎晟真;黄樯渊;丁喜俊;朴宝拉;梁熙旺 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12;C23C18/04;C09D4/06;C08J7/04;C23C18/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 梁笑;吴娟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 阻挡
【说明书】:

本申请涉及阻挡膜。在本申请中,可以提供具有优异的阻挡特性和光学特性的阻挡膜。由本申请生产的阻挡膜可以用于对水分等敏感的电子产品。

技术领域

相关申请的交叉引用

本申请要求基于于2018年10月26日提交的韩国专利申请第10-2018-0128816号的优先权的权益,其公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本申请涉及阻挡膜。特别地,本申请涉及对外来物质例如氧或水分具有优异的阻挡特性的阻挡膜。

背景技术

用于阻挡外部组分例如氧和水分的阻挡膜不仅用于作为常规主要应用的食品或药物等的包装材料,而且还用于FPD(平板显示器)例如LCD(液晶显示器)或太阳能电池用构件、电子纸或OLED(有机发光二极管)用基底、或密封膜等。特别地,在用于电气或电子元件的阻挡膜的情况下,除了对氧或水分等的高阻挡特性之外,从确保设备的性能的观点出发,还需要即使在湿热条件下放置之后阻挡特性也不劣化的耐湿热性。

用于生产阻挡膜的方法可以包括例如湿法。具体地,阻挡膜可以通过将涂覆在基础膜上的聚硅氮烷转化为二氧化硅的方法来生产。此时,聚硅氮烷可以在经历诸如在预定条件下加热或水解的过程的同时转化为二氧化硅。例如,日本专利特许公开第H10-194873号公开了将全氢聚硅氮烷或其改性产物施加至基础膜并将其在真空下烧制的方法。

发明内容

技术问题

本申请的一个目的是提供对外来物质例如氧或水分具有优异的阻挡特性的阻挡膜。

本申请的另一个目的是提供这样的阻挡膜:所述阻挡膜即使在高温和/或高湿度条件下储存之后也不会使对外来物质例如氧或水分的阻挡特性劣化。

本申请的另一个目的是提供包括所述阻挡膜的包装材料、设备或装置。

本申请的以上目的和其他目的都可以通过以下详细描述的本申请来解决。

技术方案

在本申请的一个实例中,本申请涉及阻挡膜。在本申请中,阻挡膜意指满足预期的透光率和阻挡特性的膜。

关于透光率,阻挡膜可以意指对380nm至780nm的波长范围内的可见光,具体地,波长为550nm的光的透射率为90%或更大、或者95%或更大的膜。透射率的上限为例如约100%,其中膜的透射率可以小于100%。

关于阻挡特性,阻挡膜可以具有良好的水蒸气透过率。

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