[发明专利]四氢硼酸盐的制造装置以及四氢硼酸盐的制造方法在审
申请号: | 201980072659.9 | 申请日: | 2019-11-15 |
公开(公告)号: | CN112969659A | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 长坂政彦 | 申请(专利权)人: | 新东工业株式会社 |
主分类号: | C01B6/21 | 分类号: | C01B6/21;H05H1/46 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 周宏志;张青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硼酸盐 制造 装置 以及 方法 | ||
1.一种四氢硼酸盐的制造装置,其特征在于,具备:
反应容器,所述反应容器在内部产生氢等离子体;
试样台,所述试样台设置于所述反应容器内,供硼酸盐载置;以及
氢离子遮挡部件,所述氢离子遮挡部件设置为覆盖被载置的所述硼酸盐的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的四氢硼酸盐的制造装置,其特征在于,
所述氢离子遮挡部件为网状。
3.根据权利要求1或2所述的四氢硼酸盐的制造装置,其特征在于,
所述氢离子遮挡部件由金属形成。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的四氢硼酸盐的制造装置,其特征在于,
使用含有氢气及烃气中的至少一种的原料气体而生成所述氢等离子体。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的四氢硼酸盐的制造装置,其特征在于,
所述氢等离子体为微波等离子体或RF等离子体。
6.一种四氢硼酸盐的制造方法,其特征在于,
具备将硼酸盐选择性地暴露于氢自由基的氢自由基处理工序。
7.根据权利要求6所述的四氢硼酸盐的制造方法,其特征在于,
进一步具备在所述氢自由基处理工序前,加热所述硼酸盐的预热工序。
8.根据权利要求6或7所述的四氢硼酸盐的制造方法,其特征在于,一边加热所述硼酸盐,一边实施所述氢自由基处理工序。
9.根据权利要求6~8中任一项所述的四氢硼酸盐的制造方法,其特征在于,
一边使所述硼酸盐流动,一边实施所述氢自由基处理工序。
10.根据权利要求6~9中任一项所述的四氢硼酸盐的制造方法,其特征在于,
所述硼酸盐的平均粒径为500μm以下。
11.根据权利要求6~10中任一项所述的四氢硼酸盐的制造方法,其特征在于,
所述硼酸盐为偏硼酸钠。
12.根据权利要求6~11中任一项所述的四氢硼酸盐的制造方法,其特征在于,
进一步具备在所述氢自由基处理工序前,使四氢硼酸盐与水反应而得到硼酸盐的硼酸盐制备工序。
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