[发明专利]四氢硼酸盐的制造装置以及四氢硼酸盐的制造方法

说明书

本发明提供一种四氢硼酸盐的制造装置，具备：反应容器，其在内部产生氢等离子体；试样台，其设置于上述反应容器内，供硼酸盐载置；以及氢离子遮挡部件，其设置为覆盖被载置的上述硼酸盐的至少一部分。

技术领域

本公开涉及四氢硼酸盐的制造装置以及四氢硼酸盐的制造方法。

背景技术

作为通过将硼酸盐氢化而制造四氢硼酸盐的方法，公知有在约550℃、2.3MPa的氢气氛下，使偏硼酸钠粉末与镁粉末反应2个小时左右的方法(例如，参照专利文献1)。另外，作为其他方法，公知有在约300℃、1MPa的氢气氛下，一边将粒状铝辊轧粉碎，一边使偏硼酸钠粉末与粒状铝反应1个小时左右的方法(例如，参照专利文献2)。

专利文献1：日本特开2004-224684号公报

专利文献2：国际公开第2015/190403号

在这些专利文献所记载的技术中，需要将大容积反应容器内的气氛在高温高压下保持1个小时以上，需要从外部持续投入大量的能量。另外，在该技术中，作为消耗材料而消耗作为还原金属的镁、铝，因此在工业应用的情况下包含成本非常高的工艺。另外，由于1个批次的处理时间需要1个小时以上，因此存在生产率无法提高，不适于工业应用的问题点。这样，在四氢硼酸盐的制造领域中，从工业应用的观点考虑，现状是尚未确立令人满意的制造方法。

发明内容

本公开是鉴于上述状况而完成的，其目的在于提供一种四氢硼酸盐的新的制造装置以及制造方法。

本公开的一个方式所涉及的四氢硼酸盐的制造装置具备：反应容器，其在内部产生氢等离子体；试样台，其设置于上述反应容器内，供硼酸盐载置；以及氢离子遮挡部件，其设置为覆盖被载置的上述硼酸盐的至少一部分。

在一个实施方式中，上述氢离子遮挡部件也可以是网状。

在一个实施方式中，上述氢离子遮挡部件也可以由金属形成。

在一个实施方式中，上述氢等离子体也可以使用含有氢气及烃气中的至少一种的原料气体来生成。

在一个实施方式中，上述氢等离子体也可以是微波等离子体或RF等离子体。

本公开的一个方式所涉及的四氢硼酸盐的制造方法具备将硼酸盐选择性地暴露于氢自由基的氢自由基处理工序。

在一个实施方式中，上述制造方法也可以进一步具备在氢自由基处理工序前，对硼酸盐进行加热的预热工序。

在一个实施方式中，也可以一边对硼酸盐进行加热，一边实施氢自由基处理工序。

在一个实施方式中，也可以一边使硼酸盐流动，一边实施氢自由基处理工序。

在一个实施方式中，硼酸盐的平均粒径也可以是500μm以下。

在一个实施方式中，硼酸盐也可以是偏硼酸钠。

在一个实施方式中，上述制造方法也可以进一步具备在氢自由基处理工序前，使四氢硼酸盐与水反应而得到硼酸盐的工序。

根据本公开，能够提供一种四氢硼酸盐的新的制造装置以及制造方法。本公开的制造方法能够实现低成本且高生产率，因此可以说非常适合于工业应用。

附图说明

图1是表示四氢硼酸盐的制造装置的一个例子的示意图。

图2是实验例以及比较实验例中的氢自由基处理工序中的、等离子体发光光谱测定的结果。图2中的(a)是实验例中的测定结果，图2中的(b)是比较实验例中的测定结果。

具体实施方式

以下，根据情况，参照附图对本公开的实施方式详细地进行说明。但是，本公开并不限定于以下的实施方式。