[发明专利]层叠体及层叠体的制造方法

说明书

本发明提供层叠体、活性能量线硬化性组合物及层叠体的制造方法。层叠体为具有透明基板、IM层及透明导电层的层叠体，且满足下述(1)～(3)。(1)IM层与透明导电层相接，或者在IM层与透明导电层之间具有由金属氧化物形成的锚固层，IM层与锚固层相接，锚固层与透明导电层相接。(2)IM层为包含折射率为1.70～2.72的金属氧化物粒子(A)、具有三级氨基的多官能活性能量线硬化性成分(c1)及不具有三级氨基的多官能活性能量线硬化性成分(c2)的活性能量线硬化性组合物的硬化物。(3)金属氧化物粒子(A)、硬化性成分(c1)及硬化性成分(c2)合计100质量％中，包含2质量％～50质量％硬化性成分(c1)。

本申请主张以2018年12月27日提出申请的日本专利申请特愿2018-245245为基础的优先权，并将其全部公开内容纳入本申请中。

技术领域

本发明涉及一种具有透明基板、折射率匹配层及透明电极层的层叠体、活性能量线硬化性组合物及所述层叠体的制造方法。

背景技术

已知有一种透明导电性膜，所述透明导电性膜是通过溅射等方法在透明的塑料膜基材上成膜透明导电性材料，设置透明导电层而成。所述透明导电层可通过进一步图案化而制成包括所期望的电路图案的透明导电层，作为例如液晶面板中的液晶控制用的电极、或设置在显示装置上的触摸屏的电极等来使用。

作为透明导电层，由于可见光透过率高、表面电阻值比较低、环境特性优异，因此广泛使用作为铟系氧化物的氧化铟-锡(ITO/Indium Tin Oxide)或铟锌氧化物(indiumzinc oxide，IZO)等。

但是，关于透明导电层，在具有折射率高、且为图案状的透明导电层的透明导电性膜中，存在由于具有透明导电层的部分与不具有透明电极的部分的折射率差，透明导电层的存在变得明显(所谓的见骨)的课题。

为了解决所述课题，提出了在基材与透明导电层之间设置具有与透明导电层相同程度的折射率的层(以下称为折射率匹配层(IM(index matching)层))(专利文献1～专利文献2)。

专利文献1中公开了一种层叠体，其依次层叠有透明基板、折射率为1.59～1.80的折射率匹配层、以及透明电极层。在引用文献1中，作为所述折射率匹配层，也公开了包含如下组合物，所述组合物以特定比率包含(A)折射率1.7以上的金属氧化物粒子、(B)二氧化硅粒子及(C)树脂成分。

在专利文献2的权利要求14中，公开了一种特定的透明导电性层叠体，其为在透明有机高分子基板上依次层叠硬化树脂层以及透明导电层而成。专利文献2中公开了所述硬化树脂层包含第一超微粒子、第二超微粒子。而且，在实施例中，示出了包含二氧化硅以及氧化钛作为超微粒子的例子

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2014-209333号公报

专利文献2：WO2010/114056号

发明内容

发明所要解决的问题

近年来，为了实现伴随触摸屏的大画面化的高感度化，要求透明导电性膜的低电阻值化，正研究透明导电层的厚膜化、即ITO等透明导电层的厚膜化。

另外，伴随着触摸屏的规格日趋复杂化、多样化，电极材料的规格也不断地日趋复杂化、多层化、多样化。例如，有时在经图案化的透明导电层及所露出的IM层上设置其他无机物层，所设置的无机物层有时也有多个。设置在透明导电层上及IM层上的其他无机物层与ITO等透明导电层同样地通过利用真空的物理蒸镀(Physical vapor deposition，PVD)法、化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)法成膜。成膜时，对于IM层施加不少各种负荷(热、物理上等)。