[发明专利]适应性封装布局的动态生成

权利要求书

1.一种用于在无掩模的光刻系统中处理设备的方法，包括：

得到在设计状态中，部件以及连接至所述部件的连接图案上的坐标数据；

将所述部件放置在与所述光刻系统相关的至少一个扫描装置的范围内；

以所述至少一个扫描装置对所述部件进行扫描，以产生所述部件的第二组坐标数据；

将得到的所述部件的所述坐标数据与所述第二组坐标数据进行比较，以决定由所述至少一个扫描装置进行扫描的所述部件相较于所述设计状态的偏差量；和

至少部分地根据所述偏差量的数据、用于产生所述第二组坐标数据的所述部件的扫描的视觉图像、以及所述部件的所述第二组坐标数据的其中一者，来对连接至所述部件的所述连接图案进行扩增。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述部件放置于基板上，并且其中所述基板是放置于所述光刻系统的分度台上。

3.如权利要求1所述的方法，其中通过计算机分析来进行所述连接图案的扩增。

4.如权利要求1所述的方法，其中将得到的所述坐标数据与所述第二组坐标数据进行比较的步骤中，进一步包括将所述偏差量与阈值进行比较。

5.如权利要求4所述的方法，进一步包括：

当所述偏差量少于所述阈值时，将所述偏差量设定为零。

6.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

将得到的所述坐标数据与所述第二组坐标数据进行比较的步骤中，进一步包括将所述偏差量与阈值进行比较；和

当比较结果中所述偏差量大于所述阈值时，对使用者产生警示，以提示已超出所述阈值。

7.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

根据扩增的所述连接图案的数据，制造所述连接图案。

8.一种用于在无掩模的微光刻系统中处理设备的方法，包括：

得到设计状态中，部件以及连接至所述部件的电性连接图案上的位置数据；

将所述部件放置在所述微光刻系统的平台上；

将所述平台放置在所述微光刻系统的至少一个扫描装置的范围内；

以所述至少一个扫描装置对包括所述部件的所述平台进行扫描，以产生所述部件与所述电性连接图案的第二组坐标数据；

将得到的所述部件的所述坐标数据与所述第二组坐标数据进行比较，以决定由所述至少一个扫描装置进行扫描的所述部件相较于所述设计状态的偏差量；和

至少部分地根据所述偏差量的数据，将连接至所述部件的所述电性连接图案进行扩增。

9.如权利要求8所述的方法，进一步包括：

根据扩增的连接图案的数据，制造所述连接图案。

10.如权利要求8所述的方法，其中所述部件放置于基板上。

11.如权利要求8所述的方法，其中通过计算机分析来进行所述连接图案的扩增，或

其中将得到的所述坐标数据与所述第二组坐标数据进行比较的步骤中，进一步包括将所述偏差量与阈值进行比较。

12.如权利要求8所述的方法，其中所述微光刻系统为无掩模系统，或

其中将获得的所述坐标数据与所述第二组坐标数据进行比较的步骤中，进一步包括将所述偏差量与阈值进行比较。