[发明专利]气体供给装置和气体供给方法

权利要求书

1.一种气体供给装置，其特征在于，包括：

能够收纳基片以对该基片进行处理的处理容器；

对所述处理容器内进行排气来形成真空气氛的排气机构；

气体供给通路，其包括上游侧流路和多个分支通路，其中，所述上游侧流路从气体供给源被供给气体，所述多个分支通路是该上游侧流路的下游侧分支为多个而形成的，并且分别连接到所述处理容器；

开度可变但不能够全闭的第1阀，该第1阀为了将供给到所述上游侧流路的气体向所述多个分支通路分流而分别设置于该分支通路；

第2阀，其设置于所述上游侧流路，用于向下游侧供给气体或停止气体供给；

用于检测所述处理容器内的压力的压力传感器；和

异常检测部，其基于检测出的所述处理容器内的压力，来检测所述气体供给通路中的所述第2阀的下游侧的异常。

2.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于：

还包括壳体，其仅包围所述第1阀和所述第2阀之中的所述第2阀，且内部能够被排气。

3.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于：

设置有控制部，其在由所述异常检测部检测出异常时输出控制信号以关闭所述第2阀。

4.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于：

设置有微波照射部，其对俯视时所述处理容器内的周向上相互不同的位置照射微波，使所述气体活化而形成等离子体，

所述多个分支通路的下游端连接于俯视时所述处理容器的周向上相互不同的位置。

5.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于：

所述第1阀包括：

具有所述气体的流路的主体部；

可相对于所述主体部旋转的把手，该把手与旋转量相应地相对于该主体部进退；

阀体部，其与所述把手连接而可相对于所述流路进退，使该流路的宽度成为所述把手相对于所述主体部的位置所对应的宽度；

旋转轴，其能够随所述把手的旋转而旋转，并且将所述把手与所述阀体部连接；和

抵接部件，其设置在所述旋转轴上，通过与所述主体部抵接来限制该把手的旋转量，防止所述流路全闭。

6.一种气体供给方法，其特征在于，包括：

为了对基片进行处理而将该基片收纳于处理容器中的步骤；

用排气机构，对所述处理容器内进行排气来形成真空气氛的步骤；

在包括上游侧流路和多个分支通路的气体供给通路中，从气体供给源对所述上游侧流路供给气体的步骤，其中，所述多个分支通路是该上游侧流路的下游侧分支为多个而形成的，分别连接到所述处理容器，并且设置有开度可变但不能够全闭的第1阀；

将所述气体向各所述分支通路分流的步骤；

用设置于所述上游侧流路的第2阀，向下游侧供给气体或停止气体供给的步骤；

用压力传感器检测所述处理容器内的压力的步骤；和

基于检测出的所述处理容器内的压力，用异常检测部来检测所述气体供给通路中的所述第2阀的下游侧的异常的步骤。