[发明专利]单个单元灰度散射术重叠目标及其使用变化照明参数的测量

权利要求书

1.一种散射术重叠SCOL测量方法，其包括：

通过以下项产生信号矩阵：

以至少一个照明参数的多个值且在SCOL目标上的多个光点位置照明所述目标，其中所述照明是以产生光点直径1μ的NA(数值孔径)1/3，

测量零级及第一衍射级的干扰信号，及

相对于所述照明参数及所述目标上的所述光点位置从测量信号建构所述信号矩阵，及

通过分析所述信号矩阵而导出目标重叠。

2.根据权利要求1所述的SCOL测量方法，其中所述SCOL目标包括至少一个周期性结构且所述多个光点位置是在所述至少一个周期性结构的节距内。

3.根据权利要求2所述的SCOL测量方法，其进一步包括沿所述至少一个周期性结构的测量方向将所述目标上的所述光点位置设置于目标节距内，及在垂直于所述测量方向的方向上对所述测量信号取平均值。

4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的SCOL测量方法，其中所述至少一个照明参数包括照明波长，且其所述多个值包括至少三个照明波长。

5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的SCOL测量方法，其进一步包括通过执行或模拟具有已知重叠值的SCOL目标的测量而校准所述信号矩阵。

6.根据权利要求5所述的SCOL测量方法，其进一步包括相对于所述光点位置、照明参数及目标重叠形成所述信号矩阵的模型。

7.一种计算机程序产品，其包括具有用其体现的计算机可读程序的非暂时性计算机可读存储媒体，所述计算机可读程序经配置以实行根据权利要求1到6中任一权利要求所述的SCOL测量方法。

8.一种计量模块，其包括根据权利要求7所述的计算机程序产品。

9.所述SCOL目标的计量测量，其由根据权利要求1到6中任一权利要求所述的SCOL测量方法实行。

10.一种SCOL目标，其包括在多个层处具有周期性结构且测量为2μ×2μ或更小的单个单元。

11.根据权利要求10所述的SCOL目标，其中所述周期性结构是最多四个节距条杆宽。

12.根据权利要求11所述的SCOL目标，其中所述周期性结构是两个节距条杆宽。

13.根据权利要求10到12中任一权利要求所述的SCOL目标，其被放置于对应晶片上的裸片中。

14.一种散射术重叠SCOL测量系统，其包括：

照明单元，其经配置以以至少一个照明参数的多个值且在SCOL目标上的多个光点位置照明所述目标，其中所述照明是以产生光点直径1μ的NA(数值孔径)1/3，

测量单元，其经配置以测量零级及第一衍射级的干扰信号，及

处理单元，其经配置以相对于所述照明参数及所述目标上的所述光点位置从测量信号建构信号矩阵，且通过分析所述信号矩阵而导出目标重叠。

15.根据权利要求14所述的SCOL测量系统，其进一步经配置以沿至少一个周期性结构的测量方向将所述目标上的所述光点位置设置于目标节距内，且通过沿所述至少一个周期性结构的元件扫描所述SCOL目标而在垂直于所述测量方向的方向上对所述测量信号取平均值。

16.根据权利要求14或15所述的SCOL测量系统，其中所述至少一个照明参数包括照明波长，且其所述多个值包括至少三个照明波长。

17.根据权利要求14到16中任一权利要求所述的SCOL测量系统，其进一步经配置以通过执行或模拟具有已知重叠值的SCOL目标的测量而校准所述信号矩阵。

18.根据权利要求17所述的SCOL测量系统，其进一步经配置以相对于所述光点位置、照明参数及目标重叠形成所述信号矩阵的模型。