[发明专利]半导体激光器和半导体激光器的制造方法在审

专利信息
申请号: 201980076702.9 申请日: 2019-11-11
公开(公告)号: CN113056850A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 彼得·扬德 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体股份有限两合公司
主分类号: H01S5/0225 分类号: H01S5/0225
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 徐丽华
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体激光器 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体激光器(1),具有壳体(2)和多个激光二极管芯片(31、32、33),所述激光二极管芯片封装在所述壳体(2)中,其中,

-所述壳体(2)包括盖板(23)和/或侧壁(20),所述盖板和/或所述侧壁对于在运行中产生的激光辐射(41、42、43)是能穿过的,

-所述盖板(23)和/或所述侧壁(20)具有光出射面(24),所述光出射面具有彼此并排布置的出射区域(61、62、63),

-所述出射区域(61、62、63)中的每一个刚好关联所述激光二极管芯片(31、32、33)之一,

-在光束路径中,光出射平面(26)布置在所述光出射面(24)下游,并且

-所述盖板(23)和/或所述侧壁(20)在所述出射区域(61、62、63)中具有不同的平均厚度,使得所有所述激光二极管芯片(31、32、33)的所述激光辐射(41、42、43)的至所述光出射平面(26)的光学路径长度都是相等的且具有最高为3μm的公差。

2.根据前一权利要求所述的半导体激光器(1),其中,所述出射区域(61、62、63)分别是所述光出射面(24)的平坦的局部表面,并且所述出射区域(61、62、63)全部位于所述盖板(23)中,其中,所述公差最高为1.5μm,在该公差之内,所述光学路径长度是相等的。

3.根据前述权利要求中任一项所述的半导体激光器(1),

其中,所述激光二极管芯片(31、32、33)是边缘发射的半导体激光器芯片,

其中,在运行中实现了沿平行于所述光出射平面(26)的方向的、所述激光二极管芯片(31、32、33)的发射,并且

其中,在所述壳体(2)中,至少一个偏转光学件(51)布置在所述激光二极管芯片(31、32、33)下游,所述偏转光学件(51)设置用于将在运行中产生的所述激光辐射(41、42、43)朝向所述盖板(23)偏转。

4.根据前述权利要求中任一项所述的半导体激光器(1),

其中,所述壳体(2)还包括基板(21)和中间部分(22),其中,所述基板(21)、所述中间部分(22)和所述盖板(23)借助于阳极压焊和/或焊接彼此邻接,使得所述激光二极管芯片(31、32、33)气密地密封封装在所述壳体(2)中,并且

其中,所述中间部分(22)和所述盖板(23)由同一材料制成。

5.根据前两项权利要求所述的半导体激光器(1),

其中,中间部分(22)安置在基板(21)与所述盖板(23)之间,并且

其中,所述中间部分(22)包括刚好一个作为凹槽的平坦、倾斜的边界面的偏转光学件(51),并且所述激光二极管芯片(31、32、33)布置在所述中间部分(22)的所述凹槽中。

6.根据前述权利要求中任一项所述的半导体激光器(1),

其中,在所述出射区域(61、62、63)之外,所述盖板的厚度大于或等于0.2mm并且小于或等于2mm,

其中,在所述出射区域(61、62、63)中的至少一个出射区域中的厚度减少量为最小0.1mm。

7.根据前述权利要求中任一项所述的半导体激光器(1),

其中,所述盖板(23)和/或所述侧壁(20)由玻璃制成,其中,对于在运行中产生的所述激光辐射(41、42、43),在温度为300K的情况下,所述盖板(23)和/或所述侧壁(20)的折射率大于或等于1.4并且小于或等于1.6。

8.根据前述权利要求中任一项所述的半导体激光器(1),

其中,所述出射区域(61、62、63)在所述光出射面(24)的俯视图中和/或在穿过所述光出射面(24)的截面图中展示出不同的形状。

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