[发明专利]用于控制制造设施的控制装置以及制造设施和方法在审

专利信息
申请号: 201980080494.X 申请日: 2019-11-13
公开(公告)号: CN113168136A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: M·赫拉瓦奇;M·舍普夫;M·瓦尔特 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: G05B13/02 分类号: G05B13/02;G05B19/418;G05B19/042
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;刘春元
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 控制 制造 设施 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种用于控制制造设施(1)的控制装置,

其中所述制造设施(1)包括用于执行制造过程的至少一个过程站(2a、b、c),

其中所述制造设施(1)和/或所述过程站(2a、b、c)具有用于调节和/或控制的至少一个过程参数(6),

其中所述制造设施(1)和/或所述过程站(2a、b、c)具有用于检测至少一个过程特征(12)的至少一个检测装置,

其特征在于第一控制模块(7)和第二控制模块(11),其中所述第一控制模块(7)和所述第二控制模块(11)被构造用于为了调节所述制造设施(1)和/或所述过程站(2a、b、c)分别基于机器学习算法和所述过程特征(12)为所述过程参数(6)确定调节值和/或模型。

2.根据权利要求1所述的控制装置,其特征在于组合模块(14),其中向所述组合模块(14)提供所述第一控制模块(7)和所述第二控制模块(11)的调节值和/或模型,其中所述组合模块(14)被构造为基于机器学习算法细化和/或确定所述制造设施(1)的全局模型,其中所述组合模块(14)被构造为将所述全局模型提供给所述第一控制模块(7)和/或所述第二控制模块(12)。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的控制装置,其特征在于用于存储所确定的模型和/或调节值的存储模块(13)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于,所述第一控制模块(7)被构造为,作为调节值确定所述过程参数(6)的初始值。

5.根据权利要求4所述的控制装置,其特征在于,所述第一控制模块(7)被构造用于为了启动制造而确定所述初始值,其中所述初始值的确定基于先前制造的所存储的模型和/或调节值。

6.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于,所述第二控制模块(7)被构造用于为所述制造设施(1)和/或所述过程站(2a、b、c)连续地确定调节值和/或模型。

7.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于接口模块,其中所述接口模块被构造为向用户提供所述第一控制模块(7)和/或第二控制模块(11)的调节值以用于确认。

8.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于,所述过程特征(12)包括工件(5)和/或中间产品的质量特征。

9.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于,所述过程特征(12)包括批材料、所述工件(12)、所述中间产品和/或工具的物理和/或化学特性。

10.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于,所述第一控制模块(7)被构造为将所述机器学习算法基于模型、仿真和/或预测。

11.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于,所述组合模块(14)被构造为居间促成所述第一控制模块(7)和所述第二控制模块(11)之间的数据交换、模型交换、知识交换和/或参数交换。

12.根据前述权利要求中任一项所述的控制装置,其特征在于,所述组合模块(14)被构造为对所述第一控制模块(7)和/或第二控制模块(11)的模型和/或调节值进行知识缩减和/或敏感性分析。

13.一种制造设施(1),其具有至少一个过程站(2a、b、c)和用于调节制造设施(1)的根据前述权利要求中任一项所述的控制装置。

14.根据权利要求13所述的制造设施,其特征在于,所述制造设施包括多于2个过程站。

15.一种用于控制制造设施(1)、特别是根据权利要求13或14之一所述的制造设施(1)的方法,所述制造设施具有多个过程站(2a、b、c),其中第一控制模块(7)和第二控制模块(11)基于两种机器学习算法来监视所述制造设施(1)和/或所述过程站(2a、b、c)。

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