[发明专利]用于保护敏感基材的掩蔽膜在审
| 申请号： | 201980084109.9 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN113195227A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | G·K·琼斯;B·B·戴塞;C·D·雷;S·帕克;K·A·布拉迪 | 申请（专利权）人： | 卓德嘉表层保护有限责任公司 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00;C09J7/40;B32B27/32;B32B7/06;B32B27/08;B32B27/30;G02B30/25;C09J7/20;C09J7/24;C09J7/38 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 王刚 |
| 地址： | 美国弗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 保护 敏感 基材 掩蔽 | ||
1.掩蔽膜，其包含：
粘附层，该粘附层包含氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯的共混物，该粘附层具有经配置来接触基材的外粘附表面，该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是100nm至350nm，和平均峰间距Sm是20μm至150μm；和
离型层，该离型层在该粘附层与该外粘附表面相对的一侧上。
2.根据权利要求1所述的掩蔽膜，其中该粘附层共混物还包含高密度聚乙烯。
3.根据权利要求2所述的掩蔽膜，其中该粘附层共混物包含15wt％至80wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至50wt％的低密度聚乙烯和10wt％至40wt％的高密度聚乙烯。
4.根据权利要求3所述的掩蔽膜，其中该粘附层共混物包含40wt％至70wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至30wt％的低密度聚乙烯和10wt％至40wt％的高密度聚乙烯。
5.根据权利要求1所述的掩蔽膜，其中该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是125nm至325nm，和平均峰间距Sm是20μm至100μm。
6.根据权利要求1所述的掩蔽膜，其中该离型层包含低密度聚乙烯。
7.根据权利要求6所述的掩蔽膜，其中该离型层包含低密度聚乙烯和高密度聚乙烯的共混物。
8.根据权利要求1所述的掩蔽膜，其还包含处于该粘附层与该离型层之间的芯层。
9.根据权利要求8所述的掩蔽膜，其中该芯层包含高密度聚乙烯和低密度聚乙烯的共混物。
10.根据权利要求9所述的掩蔽膜，其中该芯层共混物包含30wt％至50wt％的低密度聚乙烯和50wt％至70wt％的高密度聚乙烯。
11.根据权利要求8所述的掩蔽膜，其中该芯层包含聚丙烯。
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