[发明专利]用于保护敏感基材的掩蔽膜

说明书

一种掩蔽膜，其包含粘附层，该粘附层氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯的共混物。该粘附层具有经配置来接触基材的外粘附表面。该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是100nm至350nm，和平均峰间距Sm是20μm至150μm。该掩蔽膜还在该粘附层与该外粘附表面相对的一侧上包含离型层。

交叉参考的相关申请

本申请要求2018年12月18日提交的美国临时专利申请62/781,253的优先权权益，其整体上通过参考引入本文。

技术领域

本发明总体上涉及一种用于保护敏感基材的掩蔽膜。

背景技术

掩蔽膜，也称作表面保护膜，通常用于提供物理阻隔来防止它们粘附到的基材的损坏，污染，刮擦，磨损和/或其他损伤。掩蔽膜可以施用到用作电子显示器部件的精细、敏感的基材，并且在制造过程中一个或多个后续加工步骤以及运输和/或在基材使用之前的存储过程中保护基材。

常用的掩蔽膜通过范德华力实现对基材的粘附，这要求掩蔽膜和基材均具有至少一个非常平坦和均匀的表面，以使得掩蔽膜可以密切接触基材。粘附的量可以通过软化或硬化掩蔽膜表面的组合物来增加或减小。过大的粘附使得在加工结束时难以从基材上除去掩蔽膜。过小的粘附会导致掩蔽膜过早地与基材分离而使基材不再受到保护。

另外，掩蔽膜应当粘附到基材而在使用过程中或者不再需要掩蔽膜时除去掩蔽膜的过程中不损坏基材表面。已知一些掩蔽膜产生纹理，其改变掩蔽膜应当保护防止损坏的基材的图像清晰度。已知具有带有这样纹理的表面的基材以非均匀方式反射光，并且是当基材用作例如电子显示器中的部件时通常不可接受的。

粘结剂涂覆的经取向的聚酯膜可以为这样的应用提供可接受的掩蔽性能，但是也相对昂贵。之前用不太昂贵的聚乙烯膜使改变图像清晰度的纹理最小化的努力包括使膜的两个表面都尽可能地光滑，并且不在卷绕辊引起阻塞(即粘辊)。降低聚乙烯膜表面的表面粗糙度仅在形成的基材纹理中获得微小的改进。

令人期望的是具有这样的掩蔽膜，其提供对于基材所需的表面保护，而不在基材上留下纹理，并且比粘结剂涂覆的经取向的聚酯膜更加经济。

发明内容

已经出人意料地发现，通过使用较软的聚合物配制物和产生至少一个具有适当压纹的微纹理的表面，可以使对于精巧基材的损坏最小化或甚至避免，同时保持对基材足够的粘附性。柔软性和微纹理的组合产生一种特定类型的表面结构，其不影响基材的图像清晰度。表面粗糙度也不导致辊阻塞，并且与具有光滑表面的已知膜相比还改进了幅材(web)操作性。

根据本发明的一个方面，提供一种掩蔽膜，其包含粘附层，该粘附层包含氢化苯乙烯嵌段共聚物和低密度聚乙烯的共混物。该粘附层具有经配置来接触基材的外粘附表面。该外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是100nm至350nm，和平均峰间距Sm是20μm至150μm。该掩蔽膜还在粘附层与外粘附表面相对的一侧上包含离型层。

在一个实施方案中，粘附层还包含高密度聚乙烯。

在一个实施方案中，粘附层共混物包含15wt％至80wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至50wt％的低密度聚乙烯和10wt％至40wt％的高密度聚乙烯。

在一个实施方案中，粘附层共混物包含40wt％至70wt％的氢化苯乙烯嵌段共聚物，5wt％至30wt％的低密度聚乙烯和10wt％至40wt％的高密度聚乙烯。

在一个实施方案中，外粘附表面的平均表面粗糙度Ra是125nm至325nm，和平均峰间距Sm是20μm至100μm。

在一个实施方案中，离型层包含低密度聚乙烯。在一个实施方案中，离型层包含低密度聚乙烯和高密度聚乙烯的共混物。