[发明专利]光电子半导体器件及其制造方法在审
申请号: | 201980085245.X | 申请日: | 2019-12-18 |
公开(公告)号: | CN113302753A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 马丁·贝林格;亚历山大·通基赫;坦森·瓦尔盖斯 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/00;H01L33/24 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张春水;支娜 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电子 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
1.一种光电子半导体器件(10),所述光电子半导体器件具有:
有源区(120),所述有源区具有用于构成量子阱结构的子层(111、112、113),
其中在所述量子阱结构之内的能量级差在所述光电子半导体器件(10)的中央区域(14)中比在所述光电子半导体器件(10)的边缘区域(15)中更小。
2.根据权利要求1所述的光电子半导体器件(10),
其中由所述量子阱结构的所述子层(111、112、113)在所述边缘区域(15)中相对于所述中央区域(14)较薄的层厚度引起不同的能量级差。
3.一种光电子半导体器件(10),所述光电子半导体器件具有:
有源区(120),所述有源区具有子层,所述子层适合于构成量子阱结构,
其中在所述有源区(120)中在所述光电子半导体器件的中央区域(14)中构成量子点结构(122),并且在所述光电子半导体器件(10)的边缘区域(15)中不构成量子点结构。
4.根据权利要求3所述的光电子半导体器件(10),
其中用于构成所述有源区的所述子层在所述边缘区域(15)中具有比在所述中央区域(14)中更小的层厚度。
5.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体器件(10),
其中用于产生所述有源区(120)的所述子层(111、112、113)在所述边缘区域(15)中沿着与水平方向相交的方向构成。
6.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体器件(10),还具有:
第一导电类型的第一半导体层(116),和
第二导电类型的第二半导体层(118),其中所述有源区(120)设置在所述第一和第二半导体层(116、118)之间。
7.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体器件(10),所述光电子半导体芯片是发光二极管。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的光电子半导体器件(10),所述光电子半导体芯片是转换器,所述转换器适合用于接收第一波长的电磁辐射,并且发射大于所述第一波长的第二波长的电磁辐射。
9.根据上述权利要求中任一项所述的光电子半导体器件(10),
其中所述光电子半导体器件的侧壁与水平方向相交。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的光电子半导体器件(10),
其中所述有源区的子层(111、112、113)设置在梯形构成的衬底区域之上。
11.一种用于制造光电子半导体器件的方法,具有:
将生长衬底(100)的第一主表面(104)结构化(S100),使得所述第一主表面(104)具有水平区域(106)和倾斜侧面(108);
在所述第一主表面(104)之上外延生长(S110)半导体层结构,所述半导体层结构包含用于制造有源区(120)的子层(111、112、113),所述有源区具有量子阱结构,使得所述层结构在所述倾斜侧面(108)的区域中具有比在所述水平区域中更小的层厚度;和
在所述倾斜侧面的区域中分割各个光电子半导体器件,使得已在所述第一主表面(14)的所述水平区域(106)之上生长的半导体层结构位于所述光电子半导体器件的中央区域(14)中,并且已在所述倾斜侧面(108)之上生长的半导体层结构位于所述光电子半导体器件(10)的边缘区域(15)中。
12.根据权利要求11所述的方法,
其中所述半导体层结构的生长(S115)包括第一导电类型的第一半导体层(116)的生长,用于制造所述有源层(120)的子层(111、112、113)的生长和第二导电类型的第二半导体层(118)的生长。
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