[发明专利]单晶X射线构造解析系统在审
申请号: | 201980088789.1 | 申请日: | 2019-11-21 |
公开(公告)号: | CN113454447A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 佐藤孝 | 申请(专利权)人: | 株式会社理学 |
主分类号: | G01N23/20025 | 分类号: | G01N23/20025;G01N23/205;G01N23/207;G01N1/28 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张远 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 构造 解析 系统 | ||
提供能够可靠且容易地进行将微量的试样向微细的晶体海绵的骨架内吸藏的缜密的工序的单晶X射线构造解析系统。具备吸藏装置(500)和单晶X射线构造解析装置,单晶X射线构造解析装置具备:产生X射线的X射线源;保持试样的试样固定器;安装试样固定器并来回转动的测角仪;对安装于测角仪的试样固定器中所保持的试样照射来自X射线源的X射线的X射线照射部;检测通过试样而衍射或散射的X射线来进行测定的X射线检测测定部;和基于在X射线检测测定部中检测到的衍射或散射X射线来进行试样的构造解析的构造解析部,试样固定器包括能够在形成于内部的多个微细孔吸藏试样的细孔性络合物晶体,吸藏装置(500)使试样吸藏在试样固定器的细孔性络合物晶体。
技术领域
本发明涉及能够通过其原子、分子的排列等微观的集合构造对材料的构造进行解析的下一代的单晶X射线构造解析系统,特别是解释还包括用于进行解析的试样的吸藏的手段的单晶X射线构造解析系统。
背景技术
在新的设备、材料的研究开发中,日常地进行材料的合成、材料的评价、基于此的接下来的研究方针的决定。在使用了用于在短期内进行材料开发的X射线衍射的物质的构造解析中,为了高效地探索实现目标材料的功能/物性的物质构造,需要以能够有效地进行构造解析的物质的构造解析为中心的物质构造的探索方法和在其中使用的X射线构造解析。
但是,基于利用该方法得到的结果进行构造解析,必须是X射线的专家。因此,要求即使不是X射线的专家也能够进行构造解析的X射线构造解析系统。其中,特别是如以下的专利文献1中也已知的那样,单晶X射线构造解析作为能够得到准确且精度高的分子的立体构造的方法而受到关注。
另一方面,在该单晶X射线构造解析中,存在必须使试样结晶化而准备单晶的大的制约。然而,如在以下的非专利文献1、2以及专利文献2中也已知的那样,通过开发被称为“晶体海绵”的材料(例如,直径0.5nm~1nm的细孔无数地打开的细孔性络合物结晶),也包括无法确保不结晶化的液体状化合物、无法确保足以进行结晶化的量的试样等,能够广泛地应用单晶X射线构造解析。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:JP特开2007-3394号公报
专利文献2:JP再公表专利WO2016/017770号公报
非专利文献
非专利文献1:Makoto Fujita;X-ray analysis on the nanogram to microgramscale using porous complexes;Nature 495.461-466;28March 2013
非专利文献2:Hoshino et al.(2016),The updated crystalline spongemethod IUCrJ,3,139-151
发明内容
发明要解决的课题
然而,在成为利用了上述晶体海绵的现有技术的单晶X射线构造解析中,需要迅速且正确地进行如下工序:使由各种装置分离的数ng~数μg左右的极微量的试样吸藏在尺寸100μm左右的极微小且脆弱(fragile)的晶体海绵的骨架内的工序;并且进一步将吸藏了该试样的极微小的晶体海绵取出并安装于器具、搭载在单晶X射线构造解析装置内的X射线照射位置这样伴随微细并缜密的作业的工序。另外,这些在短时间内进行的微细且缜密的作业对在晶体海绵吸藏后的试样的测定结果造成极大的影响,成为非常重要的作业。
据此,本发明鉴于上述的现有技术中的问题点而提出,其目的特别在于,提供单晶X射线构造解析系统,即使没有X射线构造解析的专业知识,也能够不伴随还谋求迅速的现有的微细并缜密的作业而迅速、可靠且容易地进行基于极微小且脆弱(fragile)的晶体海绵的单晶X射线构造解析,换言之,成品率良好且有效率,通用性卓越且用户友好。
用于解决课题的手段
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