[发明专利]单晶X射线构造解析试样的吸藏装置以及吸藏方法

权利要求书

1.一种吸藏装置，使试样吸藏，所述吸藏装置的特征在于，具备：

将所述试样供给到被插入保持细孔性络合物晶体的试样固定器的涂敷器的内部的供给部；

控制所述涂敷器的温度的温度调整部；

从被插入所述试样固定器的所述涂敷器的内部将所述试样运出的排出部；和

控制所述供给部、所述温度调整部和所述排出部的控制部。

2.根据权利要求1所述的吸藏装置，其特征在于，

所述供给部具备注入管，

所述供给部经由经过形成于所述试样固定器的第一贯通孔而插入到所述涂敷器的所述注入管来对所述涂敷器的内部供给所述试样。

3.根据权利要求1或2所述的吸藏装置，其特征在于，

所述排出部具备排出管，

所述排出部经由经过形成于所述试样固定器的第二贯通孔而插入到所述涂敷器的所述排出管来从所述涂敷器的内部将所述试样运出。

4.根据权利要求1所述的吸藏装置，其特征在于，

所述供给部具备：

调整从外部供给的所述试样的压力或流量的供给侧第一致动器；

对所述供给侧第一致动器中调整了的所述试样进行分析的供给侧分析部；

调整所述供给侧分析部中分析过的所述试样的压力或流量的供给侧第二致动器；和

经过形成于所述试样固定器的第一贯通孔插入到所述涂敷器并将在所述供给侧第二致动器中调整了所述试样供给到所述涂敷器的内部的注入管。

5.根据权利要求1或4所述的吸藏装置，其特征在于，

所述排出部具备：

经过形成于所述试样固定器的第二贯通孔而插入到所述涂敷器的排出管；

经由所述排出管从所述涂敷器的内部将所述试样排出的排出侧第一致动器；

对在所述排出侧第一致动器排出的所述试样的成分进行分析的排出侧分析部；和

调整所述排出侧分析部中分析过成分的所述试样的压力、流量或浓度来进行排出的排出侧第二致动器。

6.根据权利要求1所述的吸藏装置，其特征在于，

所述供给部具备：

调整从外部供给的所述试样的压力或流量的供给侧第一致动器；

对在所述供给侧第一致动器中调整了的所述试样进行分析的供给侧分析部；

调整在所述供给侧分析部中分析过的所述试样的压力或流量的供给侧第二致动器；

经过形成于所述试样固定器的第一贯通孔插入到所述涂敷器并将在所述供给侧第二致动器中调整了的所述试样供给到所述涂敷器的内部的注入管；

经过形成于所述试样固定器的第二贯通孔插入到所述涂敷器的排出管；

经由所述排出管从所述涂敷器的内部将所述试样排出的排出侧第一致动器；

对在所述排出侧第一致动器排出的所述试样的成分进行分析的排出侧分析部；和

调整在所述排出侧分析部中分析过成分的所述试样的压力、流量或浓度来进行排出的排出侧第二致动器，

使在所述排出侧第二致动器排出的所述试样返回所述供给侧第一致动器。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的吸藏装置，其特征在于，

所述控制部控制所述供给部、所述温度调整部和所述排出部，来控制用于使保持在所述试样固定器的所述细孔性络合物晶体吸藏所述试样的吸藏条件。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的吸藏装置，其特征在于，

所述吸藏装置具备：读取保持于所述试样固定器或所述涂敷器中所具备的信息保持部的信息的读取部，

所述控制部存储所述读取部所读取的信息。

9.根据权利要求8所述的吸藏装置，其特征在于，

所述控制部基于所述读取部所读取的信息，来对应于从所述供给部供给到所述涂敷器的所述试样的种类控制所述供给部、所述温度调整部和所述排出部。