[发明专利]存储装置在审
申请号: | 201980089912.1 | 申请日: | 2019-11-18 |
公开(公告)号: | CN113330554A | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 长塚修平;大贯达也;加藤清;山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/8242 | 分类号: | H01L21/8242;H01L27/108;H01L29/786;G11C11/405 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘倜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 存储 装置 | ||
提供一种新颖的存储装置。在驱动电路层上层叠N个(N是2以上的自然数)包括配置为矩阵状的多个存储单元的存储层。存储单元包括两个晶体管以及一个电容器。将氧化物半导体用于构成晶体管的半导体。存储单元与写入字线、选择线、电容线、写入位线及读出位线电连接。通过将写入位线及读出位线延伸在层叠方向上,缩短存储单元与驱动电路层之间的信号传输距离。
技术领域
本发明的一个方式涉及一种存储装置、半导体装置或使用上述装置的电子设备。
但是,本发明的一个方式不局限于上述技术领域。本说明书等所公开的发明的一个方式涉及一种物体、方法或制造方法。另外,本说明书等所公开的发明的一个方式涉及一种工序(process)、机器(machine)、产品(manufacture)或者组合物(composition ofmatter)。
注意,在本说明书等中,半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置。晶体管、半导体电路为半导体装置的一个方式。另外,显示装置(液晶显示装置、发光显示装置等)、投影装置、照明装置、电光装置、蓄电装置、存储装置、半导体电路、成像装置及电子设备等有时可以说是半导体装置。或者,有时可以说是包括半导体装置。
背景技术
近年来,随着使用数据量的增大,需要具有更大的存储容量的半导体装置。为了增加每单位面积的存储容量,有效的是层叠存储单元(参照专利文献1及专利文献2)。通过层叠设置存储单元,可以与存储单元的层叠数相应地增加每单位面积的存储容量。
[先行技术文献]
[专利文献]
[非专利文献]
[专利文献1]美国专利申请公开第2011/0065270A1公报
[专利文献2]美国专利第9634097B2号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
在专利文献1及专利文献2中,层叠有多个存储元件(也称为存储单元),它们串联连接来构成三维结构的存储单元阵列(也称为存储器串(memory string))。另一方面,在这样的三维结构的存储单元阵列中,存储元件的层叠数越多,存储单元间的串联电阻就越高,存储单元阵列的电阻就越高。而在存储单元阵列的电阻变高的情况下,有流过存储单元阵列的电流的损耗以及存储单元阵列的发热等问题。
另外,在专利文献1中,形成为柱状的半导体图案与包括电荷积蓄层的绝缘体接触。另外,在专利文献2中,形成为柱状的半导体图案与被用作隧穿介质的绝缘体接触。当半导体与绝缘体接触时,在它们的界面处有时形成陷阱中心。形成在半导体和绝缘体的界面处的陷阱中心俘获电子,使晶体管的阈值电压向正方向上漂移,因此有可能给晶体管的导通状态下的电流驱动力,即通态电流(on-state current)、场效应迁移率或可靠性带来负面影响。
本发明的一个方式的目的之一是提供一种集成度高的存储装置。另外,本发明的目的之一是提供一种可靠性高的存储装置。另外,本发明的一个方式的目的之一是提供一种功耗低的存储装置。另外,本发明的一个方式的目的之一是提供一种新颖的存储装置。另外,本发明的一个方式的目的之一是提供一种新颖的半导体装置。
解决技术问题的手段
注意,这些目的的记载不妨碍其他目的的存在。注意,本发明的一个方式并不需要实现所有上述目的。除上述目的外的目的从说明书、附图、权利要求书等的描述中是显而易见的,并且可以从所述描述中抽出。
在驱动电路层上层叠N个(N是2以上的自然数)包括配置为矩阵状的多个存储单元的存储层。存储单元包括两个晶体管以及一个电容器。将氧化物半导体用于构成晶体管的半导体。存储单元与写入字线、选择线、电容线、写入位线及读出位线电连接。通过将写入位线及读出位线延伸在层叠方向上,缩短存储单元与驱动电路层之间的信号传输距离。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980089912.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多量子阱结构中的蚀刻面
- 下一篇:将远程控制设备与车辆配对
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造