[发明专利]掩模框架集成、用于掩模框架的载体和用于处理掩模的方法

权利要求书

1.一种用于掩模的载体，包含：

载体主体，所述载体主体具有被配置以面向所述掩模的至少一部分的表面，所述载体主体具有用于材料沉积的开口；和

磁性保持布置，所述磁性保持布置具有在所述载体主体的所述开口周围、布置在所述载体主体处的一个或多个磁性保持器。

2.如权利要求1所述的载体，进一步包含：

六个或更多个载体夹具接合元件，用于与载体夹具系统的夹具相互作用。

3.如权利要求2所述的载体，其中所述六个或更多个载体夹具接合元件的至少一个载体夹具接合元件被耦接到一个或多个磁性保持器的第一磁性保持器以平行于所述载体主体的所述表面移动所述第一磁性保持器，特别地其中所述第一磁性保持器通过移动所述至少一个载体夹具接合元件可移动。

4.如权利要求1至3中任一项所述的载体，其中所述一个或多个磁性保持器包括电永磁体。

5.如权利要求1至4中任一项所述的载体，其中所述载体主体包括一个或多个凹槽，并且所述一个或多个磁性保持器是在所述一个或多个凹槽中提供。

6.如权利要求1至5中任一项所述的载体，进一步包含：

一个或多个高度调整元件，以相对于所述载体主体的所述表面在高度上调整所述一个或多个磁性保持器。

7.如权利要求1至6中任一项所述的载体，其中所述一个或多个磁性保持器具有从表面突出的掩模接触表面以在掩模的掩模框架和载体主体的表面之间形成间隙，特别地其中所述间隙是0.8mm或更小。

8.如权利要求1至7中任一项所述的载体，其中所述磁性保持布置提供磁性保持布置的至少一个，所述磁性保持布置沿着开口周长的至少10％延伸，提供了至少八个磁性保持器，提供了至少五个磁性保持器，并且所述磁性保持器围绕开口的周边分布。

9.如权利要求1至8中任一项所述的载体，其中提供了用于所述一个或多个磁性保持器的一个或多个支撑件，所述一个或多个支撑件将所述一个或多个磁性保持器耦接到所述载体主体；所述一个或多个支撑件包含：

至少一个支撑件，允许至少一个磁性保持器在水平方向上的运动并且将至少一个磁性保持器在垂直方向上固定；

至少一个支撑件，允许将至少一个磁性保持器在水平方向上固定并且将至少一个磁性保持器在垂直方向上固定；和/或

至少一个支撑件，允许至少一个磁性保持器在垂直方向上的运动并且将至少一个磁性保持器在水平方向上固定。

10.一种掩模处理模块，包含：

真空腔室；和

电源，被配置以提供功率至掩模载体，以便切换真空腔室之内的一个或多个EPM。

11.如权利要求10所述的掩模处理模块，进一步包含：

支撑台，在所述真空腔室中用于支撑所述掩模载体，所述支撑台可由在非垂直定向和非水平定向之间的角度移动，所述非垂直定向特别是水平定向，所述非水平定向特别是基本垂直定向；

升降杆组件，被配置为在所述支撑台上方支撑具有掩模框架和掩模板的掩模；

照相机，被配置为检测在所述掩模载体上方远离并且相对于所述载体的所述掩模的位置；和

一个或多个对准致动器，将所述掩模相对于所述掩模载体的所述位置对准。

12.一种在掩模载体上装载掩模的方法，包含：

利用磁性保持布置在水平定向上夹紧所述掩模的掩模框架，所述磁性保持布置具有在所述载体主体的开口周围、布置在所述载体主体处的所述一个或多个EPM。

13.如权利要求12所述的方法，进一步包含：

在夹紧之前，将所述掩模相对于所述掩模载体的所述位置对准。