[发明专利]对位掩膜板、对位机构、对位掩膜板的制备方法

权利要求书

1.一种对位掩膜板，包括金属框架和固定于所述金属框架上的至少一个对位掩膜条，所述对位掩膜条上设置有对位标记，其特征在于，

所述对位掩膜条为条状结构，每个所述对位掩膜条固定于所述金属框架的一个边框上，每个所述对位掩膜条的宽度小于所述金属框架边框的宽度，每个所述对位掩膜条在所述金属框架上的正投影完全位于所述金属框架的边框内；每个所述对位掩膜条上均匀设置有多个所述对位标记，所述对位掩膜条包括第一凹槽，所述对位标记位于所述第一凹槽的底部。

2.根据权利要求1所述的对位掩膜板，其特征在于，所述金属框架包括相对设置的两个边框，每个所述边框上固定连接有一个所述对位掩膜条，每个所述对位掩膜条的延伸方向与相应的所述边框的延伸方向相同。

3.根据权利要求2所述的对位掩膜板，其特征在于，所述对位标记为贯穿设置于所述对位掩膜条上的通孔。

4.根据权利要求3所述的对位掩膜板，其特征在于，所述对位标记的四周与所述金属框架焊接固定在一起。

5.一种对位机构，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的对位掩膜板。

6.根据权利要求5所述的对位机构，其特征在于，还包括：

用于固定对位掩膜板的第一固定部；

用于固定待对位基板的第二固定部；

设置于所述待对位基板远离所述对位掩膜板的一侧的接触板；

设置于所述接触板远离所述待对位基板的一侧的磁力板，所述接触板面向所述待对位基板的一侧设置有数量与所述对位标记数量相同的第二凹槽，所述对位标记在所述接触板上的正投影位于相应的所述第二凹槽内。

7.一种权利要求1-4任一项所述的对位掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：

制作呈条状的至少一个对位掩膜条和金属框架，且所述对位掩膜条的宽度小于所述金属框架的边框的宽度；

在至少一个所述对位掩膜条上形成多个对位标记；

将至少一个所述对位掩膜条通过焊接的方式固定于所述金属框架的边框上，且每个所述对位掩膜条在所述金属框架上的正投影完全位于所述金属框架的边框内。

8.根据权利要求7所述的对位掩膜板的制备方法，其特征在于，还包括：

利用刻蚀工艺在所述对位标记所在的区域形成第一凹槽。