[发明专利]一种超高浓度二硫化钼纳米膏及其制备方法

权利要求书

1.一种超高浓度二硫化钼纳米膏，其特征在于，包括如下组分及其重量分数：块体二硫化钼(10-40wt％)，分散剂是(0-4wt％)，剩余的是溶剂。

2.根据权利要求1所述的高浓度二硫化钼纳米膏，其特征在于，所述机械剥离的二硫化钼纳米片的厚度在20层以下，二硫化钼纳米片的平均尺寸在500nm左右。

3.根据权利要求1所述的高浓度二硫化钼纳米膏，其特征在于，所述分散剂采用聚乙烯基吡咯烷酮、胆酸钠、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠、聚乙烯醇、木质素磺酸钠的一种或者多种。

4.根据权利要求1所述的超高浓度二硫化钼纳米膏，其特征在于，所述溶剂采用水、甲醇、乙醇、氮甲基吡咯烷酮、N-十二烷基吡咯烷酮、吡啶、酞酸二甲酯、乙醇、丙酮、乙酸乙烯酯、乙二醇、甲苯、庚烷、戊烷、己烷、甲酰胺、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、二氯代苯、氯仿、四氢呋喃、正辛基吡咯烷酮、环己基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、二甲基咪唑酮、N-甲基甲酰胺、二甲基甲酰胺、环己烷、苯(甲)酸苄酯、异丙醇等中的一种或者多种。

5.一种如权利要求1-4所述的超高浓度二硫化钼纳米膏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将块体的二硫化钼、分散剂、溶剂按比例称取后进行搅拌预混，得到混合液，搅拌速度为100-2000r/min；

(2)将步骤(1)所得混合液加入至以球或棒或段为介质的研磨设备中，进行机械剪切剥离，剥离时间为1-500h，通过调整实验参数和实验条件，一步法制备少层的高浓度二硫化钼纳米膏；

(3)步骤(2)所得到的高浓度二硫化钼纳米膏的中二硫化钼纳米片的浓度100-450mg/mL，产率90％-100％，稳定分散6月-48个月。

6.根据权利要求5中所述的二硫化钼纳米膏的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中的以球或棒或段为介质的研磨设备为高速剪切机、球磨机、砾磨机、砂磨机、剪切均质机中的一种或多种进行的高效剥离。

7.根据权利要求5中所述的二硫化钼纳米膏的制备方法，其特征在于，所述的球或棒或段的种类为氧化铜棒、氧化锆棒、氧化铝棒、钢段、合金段、氧化铜段、氧化铝段、氧化铁段、砾石、卵石、瓷球、玛瑙球、合金球、氧化铁球、钢球、钢棒、氧化铜球、氧化锆球、氧化铝球、合金棒、氧化铁棒、氧化锆段中的一种或多种。