[发明专利]一种沉积设备及其沉积方法

权利要求书

1.一种沉积设备，其特征在于，包括：

产品出入口，所述产品出入口用于供产品的进出；

溅射沉积室，所述溅射沉积室用于对产品进行溅射沉积；

气相沉积室，所述气相沉积室用于对产品进行气相沉积；

真空搬运腔，所述真空搬运腔分别于所述溅射沉积室、气相沉积室和产品出入口相连通，所述真空搬运腔中具有真空环境并设有用于将产品在溅射沉积室、气相沉积室和真空大气转换腔之间进行搬运的搬运工具。

2.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述产品出入口中设有真空大气转换腔，所述真空大气转换腔用于腔内的真空环境进行转换。

3.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述溅射沉积室和所述气相沉积室的数量均为一个以上。

4.根据权利要求3所述的沉积设备，其特征在于，所述溅射沉积室的数量小于所述气相沉积室的数量。

5.根据权利要求4所述的沉积设备，其特征在于，所述真空大气转换腔、溅射沉积室和气相沉积室均匀分布设置于所述真空搬运腔的外侧。

6.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述搬运工具为机械手臂。

7.根据权利要求1所述的沉积设备，其特征在于，所述真空大气转换腔的外侧设有外侧搬运工具。

8.一种应用于如权利要求1所述沉积设备的沉积方法，其特征在于，包括：

将产品从产品出入口搬运至气相沉积室中；

产品在气相沉积室中进行气相沉积，在产品表面生成非金属绝缘层；

在产品表面生成非金属绝缘层后，在预定的时间内和在真空的环境下将所述产品搬运至溅射沉积室中；

产品在溅射沉积室中进行溅射沉积，在产品的非金属绝缘层表面生成有缘层；

在生成有缘层后，将产品送入产品出入口中，并将产品搬出。

9.根据权利要求8所述的沉积方法，其特征在于，所述产品在气相沉积室中进行气相沉积，在产品表面生成非金属绝缘层包括：

对所述气相沉积室中的SiH₄和N₂O混合气体电离成等离子体状态的活性基团；

产品的表面对等离子体状态的活性基团进行吸附，在产品表面反应形成SiO₂的非金属绝缘层。

10.根据权利要求8所述的沉积方法，其特征在于，所述产品在溅射沉积室中进行溅射沉积，在产品的非金属绝缘层表面生成有缘层包括：

对溅射沉积室中的氩气进行电离，得到氩离子；

使氩离子在电场作用下向铟镓锌氧化物靶材运动撞击，撞击出来的铟镓锌氧化物原子飞向产品上的非金属绝缘层表面并聚集成核，生成有缘层。