[发明专利]测量装置及方法、曝光装置及方法、以及器件制造方法有效
申请号: | 202010012207.6 | 申请日: | 2015-12-22 |
公开(公告)号: | CN111045302B | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 上田哲宽 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;闫剑平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 装置 方法 曝光 以及 器件 制造 | ||
对准系统具有:对准系统(50),其具有包含与能够沿Y轴方向移动的晶圆(W)相对的物镜透明板(62)在内的物镜光学系统(60)、一边使测量光(L1、L2)沿Y轴方向扫描一边经由物镜透明板(62)对设置于晶圆(W)的格子标记(GM)照射该测量光(L1、L2)的照射系统(70)、和经由物镜光学系统(60)接受来自格子标记(GM)的该测量光(L1、L2)的衍射光(±L3、±L4)的受光系统(80);以及运算系统,其基于受光系统(80)的输出,求出格子标记(GM)的位置信息,物镜透明板(62)使在格子标记(GM)衍射的衍射光(±L3、±L4)朝向受光系统(80)偏转或衍射。
本发明申请是国际申请日为2015年12月22日、国际申请号为PCT/JP2015/085848、进入中国国家阶段的国家申请号为201580076880.3、发明名称为“测量装置及测量方法、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法”的发明申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及测量装置及测量方法、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法,更详细而言,涉及求出设置于物体上的格子标记的位置信息的测量装置及测量方法、具备测量装置的曝光装置及使用测量方法的曝光方法、以及使用曝光装置或曝光方法的器件制造方法。
背景技术
目前,在制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等电子器件(微型器件)的光刻工序中,使用步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进机(也称为扫描仪))等。
在这种曝光装置中,由于例如在晶圆或玻璃板(以下统称为“晶圆”)上重叠形成有多层图案,所以进行用于使已形成于晶圆上的图案和光罩或标线片(以下统称为“标线片”)所具有的图案成为最佳的相对位置关系的操作(所谓对准)。另外,作为在这种对准中使用的对准系统(传感器),已知有通过使测量光相对于设置于晶圆上的格子标记进行扫描(追随晶圆W的移动)来进行该格子标记的检测的系统(例如,参照专利文献1)。
然而,在这种对准系统中,由于扫描测量光,所以对包含物镜在内的物镜光学系统要求宽广的视野。但是,在单纯扩大物镜的视野的情况下,包含物镜在内的物镜光学系统会大型化。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:美国专利第8593646号说明书
发明内容
用于解决课题的技术方案
根据第一方面,提供一种测量装置,其具备:标记检测系统,其具有相对于设置于沿第一方向移动的物体的格子标记一边使测量光沿所述第一方向扫描一边照射所述测量光的照射系统、包含能够与沿所述第一方向移动的物体相对的物镜光学元件的物镜光学系统、以及经由所述物镜光学系统接受来自所述格子标记的所述测量光的衍射光的受光系统;以及运算系统,其基于所述标记检测系统的检测结果,求出所述格子标记的位置信息,所述物镜光学元件使在所述格子标记产生的衍射光朝向所述受光系统偏转或衍射。
根据第二方面,提供一种曝光装置,其具备:第一方面的测量装置;位置控制装置,其基于所述测量装置的输出来控制所述物体的位置;以及图案形成装置,其使用能量束在所述物体上形成规定图案。
根据第三方面,提供一种曝光装置,其具备第一方面的测量装置,一边基于所述测量装置的输出控制所述物体的位置一边对所述物体照射能量束,在所述物体上形成规定图案。
根据第四方面,提供一种曝光装置,物镜体照射能量束,在所述物体形成规定图案,其中,具备标记检测系统,该标记检测系统具有相对于设置于沿第一方向移动的所述物体的格子标记一边使测量光沿所述第一方向扫描一边照射所述测量光的照射系统、包含能够与沿所述第一方向移动的物体相对的物镜光学元件的物镜光学系统、经由所述物镜光学系统接受来自所述格子标记的所述测量光的衍射光的受光系统,由所述格子标记产生的衍射光通过所述物镜光学系统而朝向所述受光系统偏转或衍射,基于所述标记检测系统的检测结果,控制所述物体的位置。
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