[发明专利]检测装置及检测方法

权利要求书

1.一种检测装置，其特征在于，包括第一光学系统和第二光学系统，所述第一光学系统用于对待测物进行第一检测，得到所述待测物表面的待检出对象分布信息；所述第二光学系统用于根据所述待检出对象分布信息对所述待测物进行第二检测，得到待检出对象细节信息，所述第二光学系统的检测精度高于所述第一光学系统的检测精度。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二光学系统包括：第二镜头、第二光源和第二探测组件，所述第二光源用于向所述待测对象发射第二检测光束，所述第二检测光束在所述待测物表面形成检测光斑；所述第二探测组件用于通过所述第二镜头收集经过所述待测物形成的第二信号光。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二检测光束经所述第二镜头后在所述待测物表面形成检测光斑；所述第二镜头还用于收集所述第二信号光，并将所述第二信号光汇聚至所述第二探测组件。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二检测光束经所述待测物反射形成所述第二信号光；所述第二光学系统还包括：第三光源，所述第三光源用于向所述待测物发射第三检测光束，所述第三检测光束经所述待测物散射形成第三信号光；所述第二探测组件用于收集所述第三信号光。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一光学系统包括第一探测组件和多个第一光源，所述多个第一光源包括明场光源和暗场光源，所述明场光源用于向所述待测物发射第一检测光束，所述第一检测光束经所述待测物反射形成第一信号光，所述第一探测组件用于收集所述第一信号光；所述暗场光源用于向所述待测物发射第四检测光束，所述第四检测光束经所述待测物散射形成第四信号光，所述第一探测组件用于收集所述第四信号光。

6.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二光学系统还包括对焦模块，所述对焦模块包括：对焦光源和对焦探测器；所述对焦光源通过所述第二镜头向所述待测物发射对焦光束，所述对焦探测器通过所述第二镜头探测所述待测物返回的对焦光束。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述对焦模块包括WDI聚焦模块、共聚焦模块、干涉仪模块中的其中一个。

8.根据权利要求1、2或5所述的装置，其特征在于，所述检测装置还包括：载物台，用于承载所述待测物；

所述载物台被配置为带动所述待测物相对所述第一光学系统进行运动操作，所述第二光学系统被配置为相对于所述载物台沿第二方向平移；或者，所述载物台被配置为带动所述待测物相对所述第二光学系统平移，所述第一光学系统被配置为相对于所述载物台沿所述第二方向平移；其中，所述运动操作包括沿所述第一方向平移、绕所述第一方向旋转中的一者或两者组合。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述第一方向垂于所述第二方向。

10.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述第一探测组件具有位于所述待测物表面的第一视场区；所述第一视场区沿所述第一方向延伸。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第一探测组件包括多个第一探测器，所述多个第一探测器的视场区沿所述第一方向排列。

12.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述检测装置还包括第一导轨和第二导轨，所述载物台与所述第一导轨滑动连接，所述第二光学系统或第一光学系统与所述第二导轨滑动连接。

13.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述暗场光源的数量为多个，多个所述暗场光源中存在至少两个暗场光源的亮度和/或波长不同。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述明场光源与至少一个所述暗场光源的亮度和/或波长不同。