[发明专利]光机热耦合中非线性拟合方法

说明书

本发明公开一种光机热耦合中非线性拟合的方法，包括：对光学产品仿真模型的结构参数进行初始化；将热载荷加载至仿真模型中，对仿真模型的温度场进行分析；将结构载荷和温度场分布信息加载至仿真模型中，对仿真模型的应力进行分析，得到仿真模型的各个面型原始面型方程，原始面型发生位移，则构建新的面型方程，将新的面型方程写成多项式的形式，为了求解多形式系数C_m，则构造误差函数用多项式拟合系数矩阵C＝(Z^TZ)^‑1Z^TS_wn计算出多项式拟合系数，得到考虑位移结果的仿真模型的各个面型的新的面型方程

技术领域

本发明涉及工业仿真领域，尤其是涉及光机热联合仿真领域，特别是涉及一种光机热耦合中非线性拟合方法。

背景技术

在复杂环境中，典型的光机热耦合分析的温度场可以影响表面位移、折射率，进而影响光学镜头的性能，结构载荷以及结构自身的重力载荷也会影响表面位移。一般位移、温度影响和应力影响都会最终拟合成多项式的形式输入为光学面型结果。

传统的光机热耦合分析流程中的多项式拟合过程，一般采用最小二乘法实现，通过逆矩阵的形式实现。

Xa＝Y

其中a是多项式系数矩阵，X是项样本点矩阵，Y是位移或光程差矩阵，则系数矩阵a为

a＝X^-1Y

传统的多项式拟合过程只考虑面型位移结果的影响，并没有考虑位移结果本身所在位置的影响，如果样本点选取的不合理、不考虑权重会造成求解的系数误差较大，从而导致对光机结果评价出错，甚至导致设计的重大问题。

发明内容

本发明针对现有技术存在的问题和不足，提供一种光机热耦合中非线性拟合方法。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：

本发明提供一种光机热耦合中非线性拟合的方法，其特点在于，其包括以下步骤：

S1、对光学产品的光学产品仿真模型的结构参数进行初始化；

S2、将热载荷加载至光学产品仿真模型中，对光学产品仿真模型的温度场进行分析以得到温度场分布信息；

S3、将结构载荷和温度场分布信息加载至光学产品仿真模型中，对光学产品仿真模型的应力进行分析，从而得到光学产品仿真模型的各个面型的原始面型方程

其中，z表示面型的z轴坐标，x表示面型的x轴坐标，y表示面型的y轴坐标，k表示二次标准曲面系数；

S4、由于原始面型发生位移，则新的面型方程为

将新的面型方程写成多项式的形式

为了求解多形式系数C_m，则构造误差函数E

其中，E表示各个面型的误差函数，赋值为零，N表示该面型具有的位移点总数，w_i表示该面型的第i个位移点归一化后的权重值，ds_i为该面型的第i个位移点的位移值，M表示拟合多项式的项数，表示拟合多项式，C_m表示第i个位移点对应的拟合多项式中第m项拟合系数，Z_m表示第i个位移点对应的拟合多项式中第m项的拟合函数，λ表示权重因子，I表示对角矩阵；

则多项式拟合系数矩阵C为：

C＝(Z^TZ)^-1Z^TS_wn (4)