[发明专利]一种薄膜处理系统

权利要求书

1.一种薄膜处理系统，其特征在于，其包括：

放卷单元，被配置的提供并输送薄膜，所述薄膜上设置有多个待贴膜区域；

贴膜设备，被配置的将贴膜贴附于所述薄膜对应的待贴膜区域上；

缓冲单元，被配置的对贴附有贴膜的薄膜进行缓冲处理，以存储或释放所述贴附有贴膜的薄膜；

上胶装置，被配置的在所述薄膜的贴附有贴膜的一面注入浆料；

固化单元，被配置的对表面注有浆料的所述薄膜进行固化处理；

收卷单元，被配置的接收经固化处理后的所述薄膜。

2.根据权利要求1所述的薄膜处理系统，其特征在于，

所述贴膜设备包括：

工作平台，被配置的承载所述薄膜向前运动；

贴膜组件，被配置的将贴膜贴附于所述薄膜对应的待贴膜区域上，

所述贴膜设备包括传送模式和贴膜模式，并且在传送模式和贴膜模式之间交替，

当所述贴膜设备处于传送模式时，所述贴膜组件停止贴膜工作，所述工作平台工作，由所述工作平台将所述放卷单元提供的薄膜向前传送预设长度，以使所述贴膜组件与承载在所述工作平台上的所述薄膜的待贴膜区域对应；

当所述贴膜设备处于贴膜模式时，所述工作平台停止工作，所述贴膜组件工作，由所述贴膜组件分别对所述薄膜上对应的待贴膜区域贴附贴膜，

所述贴膜组件为N个，N大于等于1。

3.根据权利要求2所述的薄膜处理系统，其特征在于，

将处于所述缓冲单元之前的所述薄膜称为前半段膜，将处于所述缓冲单元之后的所述薄膜称为后半段膜，

当所述贴膜设备处于贴膜模式时，前半段膜不运动，则所述缓冲单元将其存储的所述薄膜释放出来；

当所述贴膜设备处于传送模式时，前半段膜继续传送，此时，前半段膜的传送速度大于后半段膜在所述固化单元的固化速度，或前半段膜的传送速度大于后半段膜的传送速度，则所述缓冲单元存储所述薄膜。

4.根据权利要求1所述的薄膜处理系统，其特征在于，

所述薄膜为导电薄膜，所述待贴膜区域为所述导电薄膜上的引线区域，所述引线区的位置分布于同一边或者多个边；

所述浆料为紫外光固化胶；

所述固化单元包括固化装置，所述固化装置为紫外光固化装置。

5.根据权利要求1所述的薄膜处理系统，其特征在于，所述放卷单元包括放料辊和收膜辊，

所述放料辊用于放置第一复合膜，所述第一复合膜包括薄膜和贴附于所述薄膜上的第一保护膜；

所述收膜辊用于接收从所述第一复合膜上分离出的第一保护膜。

6.根据权利要求1所述的薄膜处理系统，其特征在于，所述缓冲单元包括第一侧板、第二侧板、第一固定辊、第二固定辊和滑动辊，

所述第一侧板和第二侧板相对且竖向放置，第一侧板的内侧面上设置有第一竖向滑槽，第二侧板的内侧面上设置有第二竖向滑槽，第一竖向滑槽与第二竖向滑槽相对；

第一固定辊的两端分别固定于所述第一侧板和第二侧板上，且位于第一竖向滑槽和第二竖向滑槽的一侧；

第二固定辊的两端分别固定于所述第一侧板和第二侧板上，且位于第一竖向滑槽和第二竖向滑槽的另一侧；

所述滑动辊的两端分别位于第一竖向滑槽和第二竖向滑槽内，所述滑动辊可沿所述第一竖向滑槽和第二竖向滑槽竖向滑动。

7.根据权利要求6所述的薄膜处理系统，其特征在于，

由所述工作平台输出的贴附有贴膜的所述薄膜依次经过所述第一固定辊、滑动辊和第二固定辊，

当第一固定辊和第二固定辊之间的所述薄膜变长时，所述滑动辊沿所述第一竖向滑槽和第二竖向滑槽下移，以存储所述贴附有贴膜的所述薄膜；当第一固定辊和第二固定辊之间的所述薄膜变短时，所述滑动辊沿所述第一竖向滑槽和第二竖向滑槽上移，以释放所述缓冲单元存储的所述贴附有贴膜的所述薄膜。

8.根据权利要求7所述的薄膜处理系统，其特征在于，

所述第一竖向滑槽和所述第二竖向滑槽的侧面为齿面结构；

所述滑动辊的两端为齿面结构。