[发明专利]发光装置、光学装置、光测量装置以及图像形成装置在审
申请号: | 202010016735.9 | 申请日: | 2020-01-08 |
公开(公告)号: | CN111564463A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 近藤崇;大塚勤;皆见健史;逆井一宏 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/00;G01B11/24;G01S7/481;G01S17/10;G09G3/32 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 光学 测量 以及 图像 形成 | ||
1.一种发光装置,其包括发光部,所述发光部是将分别具有多个发光元件的多个发光元件群排列而成,
所述发光部是沿着所述排列而在所述多个发光元件群的每一个中,所述发光元件群中所含的多个发光元件并列而被依序设定为发光或非发光的状态。
2.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,
所述发光元件群中所含的多个发光元件连接于设定元件,所述设定元件通过连接于所述发光元件且成为导通状态,从而将发光元件设定为能发光或者增加发光强度。
3.根据权利要求2所述的发光装置,其特征在于,
所述设定元件是闸流管,所述闸流管包括阳极层、第一栅极层、第二栅极层及阴极层,
与所述发光元件群中所含的多个发光元件连接的设定元件构成为,在所述多个发光元件间,至少所述第一栅极层及所述第二栅极层中的其中任一者连续。
4.根据权利要求2所述的发光装置,其特征在于,包括:
点亮信号线,对所述多个发光元件群共用地设置,
通过供给至所述点亮信号线的点亮信号,使通过所述设定元件而设定为能发光或增加发光强度的发光元件群连续或间歇地发光或增加发光强度。
5.根据权利要求2或3所述的发光装置,其特征在于,
所述发光元件与所述设定元件经由隧穿结而层叠。
6.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,包括:
传送部,将所述多个发光元件群的发光元件群设定为,点亮状态或非点亮状态依序传播。
7.根据权利要求6所述的发光装置,其特征在于,
所述传送部包括针对所述多个发光元件群的每个发光元件群而设的多个传送元件,
通过使所述多个传送元件的导通状态依序传播,从而使与导通状态的传送元件连接的发光元件群成为能发光或增加发光强度的状态。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的发光装置,其特征在于,
所述多个发光元件群是排列在共用的半导体基板上。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的发光装置,其特征在于,
所述发光元件为面发光激光元件。
10.一种光学装置,其包括:
权利要求1至9中任一项所述的发光装置;以及
光学元件,使从所述发光装置所具备的多个发光元件群中的发光元件群出射的光的方向变化为预定的方向。
11.根据权利要求10所述的光学装置,其特征在于,
所述光学元件使从所述多个发光元件群出射的光的方向对应于每个发光元件群而变化。
12.根据权利要求10或11所述的光学装置,其特征在于,
所述光学元件以从所述多个发光元件群出射的光在照射面上呈二维排列的方式,而使光的方向发生变化。
13.根据权利要求10或11所述的光学装置,其特征在于,
所述多个发光元件群呈一维排列,
所述光学元件以从所述多个发光元件群出射的光在照射面上呈二维排列的方式,而使光的方向发生变化。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的光学装置,其特征在于,
所述多个发光元件群各自的所述多个发光元件呈一维排列。
15.一种光学装置,其包括:
权利要求1至7中任一项所述的发光装置;以及
光学元件,使从所述发光装置所具备的多个发光元件群中的发光元件群出射的光的扩展角变化为预定的扩展角。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的