[发明专利]一种化学机械研磨设备在审

专利信息
申请号: 202010022650.1 申请日: 2020-01-09
公开(公告)号: CN111185831A 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 杨老又 申请(专利权)人: 杨老又
主分类号: B24B27/00 分类号: B24B27/00;B24B37/34;B24B55/00;B24B57/02;B24B49/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214500 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 机械 研磨 设备
【说明书】:

发明公开了一种化学机械研磨设备,其结构包括底板、立柱、水平检测装置、研磨板、出液管、储液罐、顶板、气缸、压板、转轴,底板与设在上方的顶板相平行,底板两侧分别通过立柱与顶板相连接,气缸垂直连接在顶板底部,气缸底部与压板垂直连接,研磨板设在压板下方,研磨板通过转轴安装在底板上,储液罐连接在立柱上,储液罐底部设有出液管,出液管管口设在研磨板上方,水平检测装置安装在底板上,本发明的有益效果是:通过2个弹簧杆能够根据研磨板的高度变化进行变化,再经过杠杆结构进行放大,通过报警主机的是否水平来判断研磨板的水平状态,能够及时对工作人员进行提醒,便于及时进行调整,从而保证研磨的质量。

技术领域

本发明涉及机械领域,具体地说是一种化学机械研磨设备。

背景技术

化学机械抛光是利用混有极小磨粒的化学溶液与加工表面发生化学反应来改变其表面的化学健,生成容易以机械方式去除的产物,再经机械摩擦去除化学反应物获得超光滑无损伤的平坦化表面的。

目前现有的化学机械研磨的研磨板也有进行旋转来研磨的,当研磨板旋转工作久之后水平方向容易产生倾斜,影响研磨的质量。

发明内容

本发明的主要目的在于克服现有技术的不足,提供一种化学机械研磨设备。

本发明采用如下技术方案来实现:一种化学机械研磨设备,其结构包括底板、立柱、水平检测装置、研磨板、出液管、储液罐、顶板、气缸、压板、转轴,所述底板与设在上方的顶板相平行,所述底板两侧分别通过立柱与顶板相连接,所述气缸垂直连接在顶板底部,所述气缸底部与压板垂直连接,所述研磨板设在压板下方,所述研磨板通过转轴安装在底板上,所述储液罐连接在立柱上,所述储液罐底部设有出液管,所述出液管管口设在研磨板上方,所述水平检测装置安装在底板上,所述水平检测装置包括高度变化结构、放大结构、报警装置,所述高度变化结构设有2个并分别设在研磨板下方两侧,2个高度变化结构分别通过放大结构与报警装置传动连接。

作为优化,所述高度变化结构包括弹簧杆、杆套、弹簧,所述杆套底部与底板垂直连接,所述弹簧杆底部设在杆套内并通过弹簧与杆套内底部相连接。

作为优化,所述弹簧杆顶部设有安装槽,该安装槽内设有滚珠。

作为优化,所述杆套侧面设有与之轴线相平行的条形缺口。

作为优化,所述放大结构包括第一滑块、杠杆、支点轴、第二滑块,所述杠杆安装在通过支点轴安装杆套外侧,所述杠杆的两端分别设有滑槽,所述第一滑块、第二滑块分别设在杠杆两端的滑槽内。

作为优化,所述报警装置包括伸缩导杆、铁条、动触片、支架、报警主机、静触片,所述支架固定在底板上,所述铁条通过伸缩导杆与支架顶部相连接,所述报警主机设在铁条下方,所述报警主机顶部两侧分别设有动触片、静触片,所述动触片、静触片设在同一水平线上。

作为优化,所述第一滑块设在缺口处并与弹簧杆垂直连接,所述第二滑块与报警主机相连接。

作为优化,所述伸缩导杆设有2个并分别与铁条垂直连接。

作为优化,所述滚珠的3/5设在安装槽内。

作为优化,所述支点轴连接在杠杆长度的1/5处,所述杠杆的短端设有第二滑块,长端设有第一滑块。

作为优化,所述弹簧为压缩弹簧。

有益效果

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