[发明专利]半导体器件封装及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202010023483.2 申请日: 2020-01-09
公开(公告)号: CN111435669B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 叶剑蝉;郭盈志;林蔚峰 申请(专利权)人: 豪威科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘媛媛
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体器件 封装 及其 制造 方法
【说明书】:

本申请案涉及一种半导体器件封装和其制造方法。半导体器件封装包含透明衬底、光检测器和第一导电层。所述透明衬底具有第一表面和在所述第一表面下方的第一空腔。所述光检测器设置在所述第一空腔内。所述光检测器具有面向所述透明衬底的所述第一空腔的底表面的感测区域。所述第一导电层设置在所述透明衬底上方并且电连接至所述光检测器。

技术领域

本公开涉及一种半导体器件封装及其制造方法,并且更具体地,涉及一种包含光学器件的半导体器件封装及其制造方法。

背景技术

光学器件(诸如图像传感器)被广泛用于许多应用中,诸如数字相机、蜂窝电话、安全相机、医疗、汽车等。用于制造光学器件的技术一直以巨大的步伐继续发展。例如,对更高的分辨率和更低的功耗的需求鼓励了光学器件和其它电子部件的小型化和集成,以形成系统级封装(SiP)。

在一些现有的半导体器件封装中,为了将光学器件和其它电子部件集成到封装中,可以将光学器件和其它电子部件布置成堆叠结构。例如,光学器件可以堆叠在其它电子部件上。然而,具有堆叠结构的半导体器件封装具有相对较高的制造成本。此外,在堆叠结构中可能发生一些问题(例如,翘曲、分层等),这将不利地影响半导体器件封装的性能或可靠性。此外,具有堆叠结构的半导体器件封装具有相对较大的尺寸(厚度)。

发明内容

在一些实施例中,一种半导体器件封装包含透明衬底、光检测器和第一导电层。所述透明衬底具有第一表面和在所述第一表面下方的第一空腔。所述光检测器设置在所述第一空腔内。所述光检测器具有面向所述透明衬底的第一空腔的底表面的感测区域。所述第一导电层设置在所述透明衬底上方并且电连接至所述光检测器。

在一些实施例中,一种用于制造半导体器件封装的方法包含:(a)提供具有空腔的透明衬底;(b)在所述透明衬底的所述空腔内设置光检测器,所述光检测器具有面向所述透明衬底的所述空腔的底表面的检测区域。(c)在所述透明衬底上和所述空腔内形成第一钝化层,以覆盖所述光检测器的至少一部分;以及(d)在所述第一钝化层上形成第一导电层并且电连接至所述光检测器。

在一些实施例中,一种用于制造半导体器件封装的方法包含:(a)提供具有空腔的透明衬底;(b)在所述透明衬底上和所述空腔的侧壁上形成第一钝化层;(c)在所述第一钝化层和所述空腔的底表面的一部分上形成导电层;以及(d)将光检测器设置在所述透明衬底的所述空腔内并且电连接至所述空腔的所述底表面上的所述导电层,所述光检测器具有面向所述透明衬底的所述空腔的所述底表面的感测区域。

附图说明

当结合附图阅读时,根据以下详细描述可以最好地理解本公开的一些实施例的各方面。注意,各种结构可能未按比例绘制,并且为了讨论的清楚,各种结构的尺寸可以任意增加或减小。

图1示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的截面图。

图2A示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的截面图。

图2B示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的俯视图。

图2C示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的俯视图。

图3示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的截面图。

图4示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的截面图。

图5示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的截面图。

图6示出根据本公开的一些实施例的半导体器件封装的截面图。

图7A、7B、7C、7D、7E和7F示出根据本公开的一些实施例的半导体封装制造工艺的多个阶段。

图8A、8B、8C、8D和8E示出根据本公开的一些实施例的半导体封装制造工艺的多个阶段。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于豪威科技股份有限公司,未经豪威科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010023483.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top