[发明专利]半导体装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010027029.4 申请日: 2020-01-10
公开(公告)号: CN112447620A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 丹羽惠一 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L25/18;H01L21/98
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具备:

第1衬底,设置有第1端子;

第1半导体芯片,在与所述第1衬底相向的第1面上,具有与所述第1衬底的所述第1端子连接的电极;及

非导电性的第1树脂层,设置在所述第1衬底与所述第1半导体芯片之间,且覆盖所述第1半导体芯片的与所述第1面为相反侧的第2面整体。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,所述第1树脂层的上表面比所述第2面平坦。

3.根据权利要求2所述的半导体装置,还具备:粘结层,设置在所述第1树脂层的所述上表面上;及

第2半导体芯片,设置在所述粘结层上。

4.根据权利要求3所述的半导体装置,还具备间隔件,该间隔件设置在所述第1半导体芯片的周围,具有与所述第1树脂层的所述上表面的高度大体相等的高度,

所述第2半导体芯片设置在所述第1树脂层及所述间隔件之上。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的半导体装置,其中,所述第1树脂层的厚度为所述第1半导体芯片的翘曲量以上。

6.一种半导体装置的制造方法,包括如下步骤:向设置有第1端子的第1衬底上供给非导电性的第1树脂层的材料,

以第1半导体芯片的第1面上设置的电极与所述第1端子对应的方式,在所述第1衬底上层叠第1半导体芯片,

通过对所述第1衬底及所述第1半导体芯片施加压力同时加热,而将所述第1半导体芯片的电极与所述第1衬底的端子连接,

在所述第1半导体芯片的与所述第1面为相反侧的第2面整体上覆盖所述第1树脂层的材料。

7.根据权利要求6所述的半导体装置的制造方法,其中,所述第1树脂层的上表面比所述第2面平坦。

8.根据权利要求7所述的半导体装置的制造方法,其中,使用压接装置将所述第1半导体芯片的电极与所述第1衬底的端子连接后,平坦化所述第1树脂层时,利用树脂膜使所述第1树脂层的上表面平坦化。

9.根据权利要求7或8所述的半导体装置的制造方法,其中,使用压接装置将所述第1端子与所述电极连接后,在所述第2面与所述压接装置之间设置间隙,并向所述间隙内导入所述第1树脂层的材料。

10.根据权利要求7或8所述的半导体装置的制造方法,其中,使用压接装置将所述第1端子与所述电极连接后,再次向所述第2面上供给所述第1树脂层的材料,所述压接装置利用所述第1树脂层的材料覆盖所述第2面整体。

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