[发明专利]一种用于化学机械抛光的浆料分布设备

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其结构包括第一电机(1)、工件吸盘(2)、顶架(3)、浆料集中分布装置(4)、导液管(5)、液箱(6)、底架(7)、底座(8)，其特征在于：

所述的底座(8)顶部设有底架(7)，所述的底架(7)内部设有液箱(6)，所述的底架(7)两侧设有导液管(5)，所述的底架(7)顶部设有浆料集中分布装置(4)，所述的浆料集中分布装置(4)顶部设有顶架(3)，所述的顶架(3)底部设有工件吸盘(2)，所述的顶架(3)顶部设有第一电机(1)。

2.根据权利要求1所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其特征在于：所述的浆料集中分布装置(4)由多向排液机构(41)、集中汇液机构(42)、回液滤杂环筒(43)、液压杆(44)、稳向外架(45)、第二电机(46)组成，所述的多向排液机构(41)内部设有集中汇液机构(42)，所述的集中汇液机构(42)底部设有回液滤杂环筒(43)，所述的回液滤杂环筒(43)下方设有稳向外架(45)，所述的稳向外架(45)中心位置设有液压杆(44)，所述的液压杆(44)底部设有第二电机(46)。

3.根据权利要求2所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其特征在于：所述的多向排液机构(41)由集液圆框(41a)、排液环管(41b)、排液嘴(41c)、集液槽(41d)、轴套(41e)、出液孔(41f)组成，所述的集液圆框(41a)顶部设有排液环管(41b)，所述的排液环管(41b)内圈上设有排液嘴(41c)，所述的集液圆框(41a)中心位置设有集液槽(41d)，所述的集液槽(41d)中心位置设有轴套(41e)，所述的集液槽(41d)内部分布有出液孔(41f)。

4.根据权利要求2所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其特征在于：所述的集中汇液机构(42)由转盘(42a)、导流隔条(42b)、集液抛光盘(42c)、防溢圆环(42d)组成，所述的转盘(42a)外圈上设有防溢圆环(42d)，所述的转盘(42a)中心位置设有集液抛光盘(42c)，所述的转盘(42a)顶部设有导流隔条(42b)。

5.根据权利要求4所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其特征在于：所述的集液抛光盘(42c)由集液叶片(42c1)、抛光盘(42c2)、圆盘(42c3)、排液孔(42c4)组成，所述的圆盘(42c3)顶部设有抛光盘(42c2)，所述的圆盘(42c3)内圈上设有集液叶片(42c1)，所述的抛光盘(42c2)外圈上设有排液孔(42c4)。

6.根据权利要求3所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其特征在于：所述的排液嘴(41c)由上向下倾斜设置在排液环管(41b)上。

7.根据权利要求4所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其特征在于：所述的防溢圆环(42d)所形成的圆周直径等于集液圆框(41a)内圈所形成的圆周直径。

8.根据权利要求6所述的一种用于化学机械抛光的浆料分布设备，其特征在于：所述的所述的抛光盘(42c2)设置在高度低于各个集液叶片(42c1)设置的高度，所述的排液孔(42c4)设置的高度低于抛光盘(42c2)设置的高度。