[发明专利]一种杀灭耐药菌的纳米抗菌剂及其制备方法

权利要求书

1.一种杀灭耐药菌的纳米抗菌剂的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：

1）使用机械剥离的方法制备Cu₂MoS₄纳米材料：将0.5-5份块状Cu₂MoS₄材料和5-50份聚乙烯吡咯烷酮置于球磨罐中球磨，球磨转速为400-700 rpm，球磨时间为12-48 h；

2）球磨结束后，对球磨后的混合材料进行梯度离心以纯化纳米材料；

3）将纯化的纳米材料分散在超纯水中，Cu₂MoS₄纳米材料水溶液的浓度为5-100 μg/mL，4°C下保存，备用；

在近红外二区激光照射2-20 min，浓度为5-100 μg/mL的纳米抗菌剂可有效杀灭的耐药菌为耐氯霉素、链霉素和四环素的大肠杆菌和耐甲氧西林的金黄色葡萄球菌。

2.如权利要求1所述的一种杀灭耐药菌的纳米抗菌剂的制备方法，其特征在于，所述Cu₂MoS₄纳米材料的粒径为5-100 nm。

3.如权利要求1所述的一种杀灭耐药菌的纳米抗菌剂的制备方法，其特征在于，步骤2）中进行梯度离心的条件是：离心转速为5000-20000 rpm，离心时间为1-4 h。