[发明专利]一种杀灭耐药菌的纳米抗菌剂及其制备方法

说明书

本发明公开了一种快速高效杀灭耐药菌的纳米抗菌剂及其制备方法，该纳米抗菌剂的主要成分是可以通过机械剥离的方法制备的硫代钼酸亚铜（Cu₂MoS₄）纳米材料，制备简单，适用于大批量生产。在近红外二区激光照射2‑20 min，Cu₂MoS₄纳米材料对耐药的大肠杆菌和耐药的金黄色葡萄球菌均展示出高的抗菌性能；该纳米抗菌剂不仅具有良好的生物相容性和极低的细胞毒性，而且能够在短时间内有效地治疗活体皮下的耐药菌感染。

技术领域

本发明涉及纳米抗菌技术和耐药菌感染领域，具体是涉及一种快速高效杀灭耐药菌的纳米抗菌剂及其制备方法。

背景技术

抗生素指由细菌、霉菌或其它微生物在生活过程中所产生的具有抗病原体或其它活性的一类物质。自1940年青霉素应用于临床开始，抗生素的发展迅速，现今抗生素的种类已达几千种。然而广泛使用抗生素带来的一个非常明显的副作用是抗生素使用后微生物可针对它产生耐药性，如出现抗生素的滥用，导致环境中存在的这些致病微生物都是耐药的，人体生病感染的都变成了耐药菌的话，很难有有效的药物来进行针对性治疗，耐抗生素菌株的不断出现和迅速蔓延已经严重威胁人类的健康。目前，每年有70万人死于抗菌的耐药性，如不能采取有效的方式进行遏制，到2050年，每年的死亡人数将上升到1000万，并且治疗和研发成本将飙升到100万亿美元（https://www.wired.com/2015/02/oneill-amr-2/）。新型抗生素的研发是解决该问题的途经之一，但是该方法的花费周期长且成本高昂，而且新型抗生素的使用也会导致新型耐药菌的产生。为此，相关研究者们一直致力于开发可替代抗生素的抗菌化合物和纳米材料来解决这一问题。

随着纳米生物医学的不断发展，新型的抗菌纳米材料应运而生，其可极大地削弱细菌的耐药性。近年来，许多纳米材料（诸如银、基于碳的纳米材料和金属的氧/硫化物等）已经被应用在抗菌领域，其导致细菌失活的策略主要包括：（1）纳米材料固有的抗菌活性，通过释放金属离子破坏细菌内的蛋白质和DNA；（2）基于纳米材料的光热转化性质，通过产生过热杀死细菌；（3）基于纳米材料的催化性质，催化产生活性氧破坏脂质和DNA。

但是现有技术中公开的纳米抗菌材料仍然存在不足，主要体现在以下几个方面：现有的抗菌纳米材料的抗菌活性低；激光功率密度不安全；纳米材料的制备过程复杂。因而，亟需发展一种低成本、高疗效、安全性强的抗菌纳米材料来解决当前医疗行业面临的相关困境。

发明内容

为了解决现有技术中存在的不足，本发明提供了一种快速高效杀灭耐药菌的纳米抗菌剂及其制备方法，通过简单的机械剥离的方法制备得到的Cu₂MoS₄纳米材料，可用于耐药菌感染的有效治疗。

本发明的技术方案为：一种快速高效杀灭耐药菌的纳米抗菌剂，包括0.5-5份Cu₂MoS₄纳米材料和5-50份表面活性剂。

进一步地，Cu₂MoS₄纳米材料为纳米片、纳米颗粒、纳米薄膜、纳米点形式中的一种。

进一步地，Cu₂MoS₄纳米材料的粒径为5-100 nm。

进一步地，表面活性剂包括聚醚F127、羟甲基纤维素、聚乙烯吡咯烷酮、十六烷基三乙基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵中的一种或多种。

进一步地，在近红外二区激光照射2-20 min，浓度为5-100 μg/mL的纳米抗菌剂可有效杀灭的耐药菌为耐氯霉素、链霉素和四环素的大肠杆菌和耐甲氧西林的金黄色葡萄球菌。

上述纳米抗菌剂的制备方法具体包括如下步骤：