[发明专利]一种PET镀膜方法、镀膜PET

说明书

一种PET镀膜方法、镀膜PET，属于镀膜技术领域。方法包括：步骤S01,在PET基板表面溅镀Ti；步骤S02，在溅镀Ti层的PET基板上进行镀膜。本镀膜PET基于上述方法制备。本发明在PET薄片基本表面镀膜，采用特定的膜层设计，使之与PET表面精密粘结，并达到在400nm～700nm光谱波段平均反射率低于0.15％的吸光作用。

技术领域

本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种PET镀膜方法、镀膜PET。

背景技术

类似于低反射率的减反射膜镀膜，一般用在玻璃等基板上，脆性和延展性相对不足，最重要的是无法达到吸光作用。现有镀膜技术在PET表面镀膜，PET折皱严重，膜层不均匀，光谱达不到要求。

发明专利申请CN201510835077.5公开了一种电子设备壳体的镀膜制备工艺，并具体公开了工艺包括以下步骤：离子轰击步骤：将一面经过UV转印处理的透明PET片材置于真空镀室内，对所述PET片材的表面进行离子轰击；镀膜步骤：利用真空镀膜方式在所述PET片材的表面依次镀上SiO2膜、TiO2膜、铟膜和SiO2膜。该工艺中PET折皱严重，膜层不均匀。

发明内容

本发明针对现有技术存在的问题，提出了一种耐折性好，具有反射率低于0.15％吸光作用的PET镀膜方法、镀膜PET。

本发明是通过以下技术方案得以实现的：

本发明一种PET镀膜方法，包括:

步骤S01,在PET基板表面溅镀Ti；

步骤S02，在溅镀Ti层的PET基板上进行镀膜。

将Ti层作为基板和膜层之间的粘结层，避免PET折皱，膜层不均匀。

作为优选，步骤S01具体包括：真空溅射镀膜机对腔体抽真空；在PET基板表面溅镀Ti。

作为优选，步骤S01溅镀Ti层的厚度为20-200nm。

作为优选，所述步骤S02具体包括：在溅镀Ti层的PET基板上依次溅镀Al₂O₃、Ti、Al₂O₃、SiO₂。

作为优选，镀膜温度不超过200℃。

作为优选，镀膜的膜厚不超过300nm。

作为优选，镀膜后的PET基板具有400-700nm波段的吸光特性。

一种镀膜PET，采用上述PET镀膜方法制备；所述PET包括PET基板、膜层、Ti层；所述Ti层设于PET基板和膜层之间。

作为优选，所述膜层由Al₂O₃、Ti、Al₂O₃、SiO₂构成。

本发明具有以下有益效果：

本发明一种PET镀膜方法、镀膜PET，在PET薄片基本表面镀膜，采用特定的膜层设计，使之与PET表面精密粘结，并达到在400nm～700nm光谱波段平均反射率低于0.15％的吸光作用。

附图说明

图1为本发明一种PET镀膜方法的流程图；

图2为采用本发明一种PET镀膜方法制备的PET在不同波段下的反射率曲线图。

具体实施方式

以下是本发明的具体实施例并结合附图，对本发明的技术方案作进一步的描述，但本发明并不限于这些实施例。

如图1，本发明一种PET镀膜方法，包括：