[发明专利]半导体装置及半导体电路在审
申请号: | 202010050387.7 | 申请日: | 2020-01-17 |
公开(公告)号: | CN112542513A | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 末代知子;岩鍜治阳子 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L27/07;H01L29/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 电路 | ||
实施方式提供具有IGBT和二极管并能够缩小芯片尺寸的半导体装置及半导体电路。半导体装置具备:半导体层,具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第2导电型的第3半导体区域、第1导电型的第4半导体区域、第2导电型的第5半导体区域、第1导电型的第6半导体区域、第1沟槽和第2沟槽;第1沟槽中的第1栅极电极;第2沟槽中的第2栅极电极;第1面侧的第1电极;第2面侧的第2电极;与第1栅极电极连接的第1电极焊盘;与第2栅极电极连接的第2电极焊盘,该半导体装置具有包含第1半导体区域的第1区域、包含第2半导体区域的第2区域及设置于第1区域与第2区域之间且与第1区域相比第2沟槽的密度更高的第3区域。
【关联申请】
本申请享受以日本专利申请2019-171101号(申请日:2019年9月20日)为基础申请的优先权。本申请通过参考该基础申请而包括基础申请的全部内容。
技术领域
本发明的实施方式涉及半导体装置及半导体电路。
背景技术
作为电力用的半导体装置的一例,有绝缘栅双极型晶体管(IGBT)。IGBT例如在集电极电极上设置p型的集电极区域、n型的漂移区域及p型的基极区域。并且,在贯通p型的基极区域并到达n型的漂移区域的沟槽内,中间夹着栅极绝缘膜地设置栅极电极。并且,在p型的基极区域表面的与沟槽相邻的区域,设置与发射极电极连接的n型的发射极区域。
近年,将IGBT和续流二极管(Freewheeling Diode)形成于同一半导体芯片的Reverse-Conducting IGBT(RC-IGBT)被广泛开发及产品化。RC-IGBT例如作为变换器电路的开关元件而使用。续流二极管具有使电流与IGBT的导通电流反方向流通的功能。将IGBT和续流二极管形成于同一半导体芯片,有由终端区域的共有化带来的芯片尺寸的缩小、发热部位的分散等许多优点。
发明内容
本发明的实施方式提供具有IGBT和二极管并能够缩小芯片尺寸的半导体装置及半导体电路。
实施方式的半导体装置具备:具有第1面及与上述第1面对置的第2面的半导体层,该半导体层具有:与上述第2面接触的第1导电型的第1半导体区域;与上述第2面接触的第2导电型的第2半导体区域;第2导电型的第3半导体区域,设置于上述第1半导体区域与上述第1面之间、及上述第2半导体区域与上述第1面之间;第1导电型的第4半导体区域,设置于上述第1半导体区域与上述第1面之间,在该第1导电型的第4半导体区域与上述第1半导体区域之间夹着上述第3半导体区域;第2导电型的第5半导体区域,设置于上述第4半导体区域与上述第1面之间;第1导电型的第6半导体区域,设置于上述第2半导体区域与上述第1面之间,在该第1导电型的第6半导体区域与上述第2半导体区域之间夹着上述第3半导体区域;第1沟槽,在上述第1面侧与上述第4半导体区域接触而设置;和第2沟槽,在上述第1面侧与上述第4半导体区域接触而设置;第1栅极电极,设置于上述第1沟槽之中;第1栅极绝缘膜,设置于上述第1栅极电极与上述第3半导体区域之间、及上述第1栅极电极与上述第4半导体区域之间,与上述第5半导体区域接触;第2栅极电极,设置于上述第2沟槽之中;第2栅极绝缘膜,设置于上述第2栅极电极与上述第3半导体区域之间、上述第2栅极电极与上述第4半导体区域之间;第1电极,设置于上述半导体层的上述第1面侧,与上述第4半导体区域、上述第5半导体区域及上述第6半导体区域电连接;第2电极,设置于上述半导体层的上述第2面侧,与上述第1半导体区域及上述第2半导体区域电连接;第1电极焊盘,设置于上述半导体层的上述第1面侧,与上述第1栅极电极电连接,并被施加第1栅极电压;以及第2电极焊盘,设置于上述半导体层的上述第1面侧,与上述第2栅极电极电连接,被施加第2栅极电压,该半导体装置具有:包含上述第1半导体区域的第1区域、包含上述第2半导体区域的第2区域及设置于上述第1区域与上述第2区域之间、且上述第2沟槽的密度比上述第1区域高的第3区域。
附图说明
图1是第1实施方式的半导体电路的示意图。
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