[发明专利]化学沉积系统在审
申请号: | 202010054552.6 | 申请日: | 2020-01-17 |
公开(公告)号: | CN113136573A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 郑文锋;许吉昌;孙尚培;连传泰 | 申请(专利权)人: | 先丰通讯股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38;C23C18/16;H05K3/18 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人: | 赵梦雯;艾晶 |
地址: | 中国台湾桃园市观*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 沉积 系统 | ||
1.一种化学沉积系统,主要具有一槽体,该槽体内容置有一化学镀液,可供一加工物置入进行化学沉积;其特征在于:
该槽体的内壁为导电材料,具有一牺牲阴极以及一电源,该牺牲阴极浸置于该化学镀液,而该电源的一正极连接于该内壁,该电源的一负极则连接于该牺牲阴极。
2.如权利要求1所述的化学沉积系统,其特征在于,该槽体以导电材料一体制成。
3.如权利要求1所述的化学沉积系统,其特征在于,该槽体于该内壁固定至少一层导电层。
4.如权利要求1至3任一所述的化学沉积系统,其特征在于,该电源为整流器。
5.如权利要求4所述的化学沉积系统,其特征在于,该电源提供1伏特至2伏特的电压。
6.如权利要求1至3任一所述的化学沉积系统,其特征在于,该内壁的导电材料包括不锈钢,而该牺牲阴极的材料包括钛、铁或前述金属的合金,该化学镀液包括一铜离子水溶液。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先丰通讯股份有限公司,未经先丰通讯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010054552.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种加热装置
- 下一篇:一种氧硫化碳的纯化方法
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理