[发明专利]一种半导体精密阀门镜面处理方法

说明书

本发明公开了一种半导体精密阀门镜面处理方法，应用于自动化设备对半导体精密阀门的加工中，本发明通过自动化设备夹持多种耗材对半导体精密阀门的各个面的不同尺寸的孔循序渐进地进行精密研磨和抛光处理，有效解决了人手打磨带来的劳动强度大、生产效率低、产品质量不稳定和耗材损耗快等问题，实现了半导体精密阀门打磨和抛光的自动化生产。

技术领域

本发明涉及半导体精密加工技术领域，尤其涉及一种半导体精密阀门镜面处理方法。

背景技术

在现有技术中，半导体精密阀门镜面抛光是采用人工手持打磨工具夹持砂纸棒、橡胶磨头、羊毛磨头等耗材对夹持在工作台的零件进行打磨、抛光处理。但是人工对半导体精密阀门进行镜面抛光导致产品的质量参差不齐，同时人工生产的效率极低、劳动强度大和耗材损耗快等缺点。所以需要一种适合应用于磨抛专用设备对半导体精密阀门进行镜面抛光的方法，以提高生产效率、降低生产成本和保证生产质量。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种半导体精密阀门镜面处理方法，其能解决人工生产的效率极低、劳动强度大和耗材损耗快的问题。

为了达到上述目的，本发明所采用的技术方案如下：

一种半导体精密阀门镜面处理方法，包括以下步骤：

S1：将半导体精密阀门水平放置，采用直径为2.5mm的180#橡胶磨头对直径为3mm的孔的孔壁研磨20秒，再往孔内加入研磨膏，并采用直径为3mm的羊毛磨头抛光30秒；

S2：采用直径为3.5mm的180#橡胶磨头对直径为4mm的孔的孔壁研磨20秒，再往孔内加入研磨膏，并采用直径为4mm的羊毛磨头抛光30秒；

S3：采用直径为12mm的金字塔纱布磨头对半导体精密阀门侧面的直径为16.6mm的孔的孔壁进行研磨；

S4：向半导体精密阀门侧面的直径为16.6mm的孔加入研磨膏，再采用直径为10mm的羊毛毡磨头对孔底进行研磨以及直径为12mm的羊毛磨头对孔底进行抛光；

S5：将半导体精密阀门垂直放置，采用直径为4mm的180#橡胶磨头对直径为5mm的孔壁研磨40秒，再往孔内加入研磨膏，并采用直径为5mm的羊毛磨头对孔研磨60秒；

S6：将半导体精密阀门翻转放置，采用直径为3.5mm的180#橡胶磨头对直径为4mm的孔的孔壁研磨20秒，再往孔内加入研磨膏，并采用直径为4mm的羊毛磨头对孔抛光30秒；

S7：采用直径为12mm的倒锥羊毛磨头对直径为16.6mm的孔的孔底研磨30秒，同时向孔内加入研磨膏；

S8：采用直径为12mm的金字塔纱布磨头对直径为16.6mm的孔的孔壁进行研磨；

S9：采用直径为12mm的羊毛磨头对直径为16.6mm的孔的孔壁进行研磨，同时向孔内加入研磨膏；

S10：采用直径为12mm的倒锥羊毛磨头对直径为16.6mm的孔的孔底抛光30秒，同时向孔内加入研磨膏。

优选的，S1和S2中所述橡胶磨头的主轴转速为8000rpm，侧向压力为1.96N，所述羊毛磨头的主轴转速为12000rpm，侧向压力为1.96N，所述研磨膏为W28钻石研磨膏。

优选的，所述S3由以下步骤实现:

S3.1:采用直径为12mm的800#金字塔纱布磨头以20mm/s的上下进给速度对半导体精密阀门侧面的直径为16.6mm的孔的孔壁研磨10秒，所述金字塔纱布磨头的主轴转速为2000rpm，侧向压力为4.9N；