[发明专利]一种碳化硅纤维表面连续制备复合界面层的设备及方法在审

专利信息
申请号: 202010056704.6 申请日: 2020-01-17
公开(公告)号: CN111172519A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 齐哲;焦健;姜卓钰;吕晓旭;刘虎;杨金华;艾莹珺 申请(专利权)人: 中国航发北京航空材料研究院
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/26;C23C16/34;C23C16/32;C23C16/56;D06M11/74;D06M11/80;D06M11/77
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 仉宇
地址: 100095 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 碳化硅 纤维 表面 连续 制备 复合 界面 设备 方法
【说明书】:

本发明涉及一种碳化硅纤维表面连续制备复合界面层的设备及方法,该设备包括第一沉积室、至少一个过渡沉积室,在任意两个相邻的沉积室之间设置有隔离室,所述隔离室通入有惰性气体,且所述隔离室内惰性气体的气压高于相邻的两个沉积室的室内气压,使得相邻的两个沉积室中的气体在气压差的作用下相互隔离,不会流入隔离室;每个沉积室中设置有滚轮组,用于纤维束导向。本发明解决了:分批次沉积界面层,同一炉次不同炉位的界面层厚度,和同一炉位不同炉次的界面层厚度都很难实现均匀。每一炉次沉积,SiC纤维随着炉体一起升温和降温,在高温下处理时间过长,纤维强度下降明显等的技术问题。

技术领域

本发明涉及陶瓷基复合材料领域,本发明涉及基于CVD的一种束丝碳化硅纤维表面连续制备复合界面层的设备及方法,属于复合材料领域。

背景技术

连续SiC纤维增韧的SiC基复合材料(SiCf/SiC复合材料)是以SiC纤维为增强相、以SiC陶瓷为基体构成的材料,具有耐高温、低密度、抗氧化、对裂纹不敏感、不易发生灾难性破碎等优点,从而在航空航天等领域具有广泛应用。该材料的制备工艺主要有化学气相渗透法、聚合物浸渍-裂解法、熔渗法和纳米浸渍与瞬态共晶法等。除化学气相渗透法外,其他方法均需预先在束丝SiC纤维表面制备界面层,最常见的界面层制备手段为化学气相沉积/渗透法(CVD/CVI)。就通常的术语而言,化学气相渗透法的压力较化学气相沉积法更低,更有利于反应气氛在织物内和纤维束内的扩散。界面层是SiCf/SiC复合材料不可或缺的一部分。界面层通过裂纹偏转和裂纹阻断的作用,使纤维和基体之间的强结合转为弱结合,使得陶瓷这一传统的脆性材料可以组成具有韧性的陶瓷基复合材料。界面层性能是提升SiCf/SiC复合材料力学性能的关键。

近年来,连续界面层沉积技术已经引起了人们的注意,例如,阳海棠的发明专利申请CN108385087A报道了一种连续、快速制备SiC纤维表面氮化硼(BN)界面层的方法,BuetE.等人的美国专利申请US2018/0347106A1报道了一种通用的在一束或多数束丝纤维上沉积一种界面层的装置。另一方面,碳纤维的连续石墨化处理也是一项相对成熟的技术,可以为带界面层碳化硅纤维的热处理提供借鉴。但是,SiCf/SiC复合材料多需要复合界面层。如果每一次处理都要经过一次收放卷和开关机过程,不仅对纤维造成的机械损伤和热损伤大,也浪费了宝贵的时间。因此,Buet E.等人的美国专利申请US2018/0347048A1提出了一种连续制备复合界面层的装置。但是,这种装置有两个缺点:不同的沉积气氛会通过微孔扩散相互污染,影响界面层的质量;所有沉积区温度相同,限制了不同界面层制备工艺的灵活性。

发明内容

本发明解决的技术问题是:(1)分批次沉积界面层,同一炉次不同炉位的界面层厚度,和同一炉位不同炉次的界面层厚度都很难实现均匀。

(2)每一炉次沉积,SiC纤维随着炉体一起升温和降温,在高温下处理时间过长,纤维强度下降明显。

本发明的技术方案是:

提供一种碳化硅纤维表面连续制备复合界面层的设备,该设备包括第一沉积室、至少一个过渡沉积室,在任意两个相邻的沉积室之间设置有隔离室,所述隔离室通入有惰性气体,且所述隔离室内惰性气体的气压高于相邻的两个沉积室的室内气压,使得相邻的两个沉积室中的气体在气压差的作用下相互隔离,不会流入隔离室;每个沉积室中设置有滚轮组,用于纤维束导向。

提供一种碳化硅纤维表面连续制备复合界面层的设备,该设备包括第一沉积室、至少一个过渡沉积室和热处理室,所述第一沉积室、至少一个过渡沉积室和热处理室依次设置,在任意两个相邻的沉积室之间设置有隔离室,过渡沉积室与热处理室之间设置有隔离室,所述隔离室通入有惰性气体,且所述隔离室内惰性气体的气压高于相邻的两个室的室内气压,使得相邻的两个室中的气体在气压差的作用下相互隔离,不会流入隔离室;每个沉积室中设置有滚轮组,用于纤维束导向;

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