[发明专利]沉积掩模单元

权利要求书

1.一种沉积掩模单元，所述沉积掩模单元包括：

沉积掩模片，包括多个开口，以及

沉积掩模框架，包括凸起部，所述沉积掩模片在所述凸起部处可附着到所述沉积掩模框架，所述凸起部包括：支撑部；以及接合部，从所述支撑部的上表面突出，所述接合部的上表面是弯曲的。

2.根据权利要求1所述的沉积掩模单元，其中，附着到所述沉积掩模框架的所述沉积掩模片与所述沉积掩模框架的所述支撑部分隔开。

3.根据权利要求1所述的沉积掩模单元，其中，所述沉积掩模片的厚度是1微米至100微米。

4.根据权利要求3所述的沉积掩模单元，其中，所述接合部的所述上表面距所述支撑部的所述上表面的最大高度等于所述沉积掩模片的所述厚度。

5.根据权利要求1所述的沉积掩模单元，其中，

所述沉积掩模片的所述多个开口使沉积材料穿过，并且

所述多个开口之中的相邻开口之间的距离是5微米至15微米。

6.根据权利要求5所述的沉积掩模单元，其中，每平方英寸内的所述开口的数量是1000000或更多。

7.根据权利要求1所述的沉积掩模单元，其中，所述接合部的所述上表面距所述支撑部的所述上表面的最大高度是0.01毫米至0.03毫米。

8.根据权利要求1所述的沉积掩模单元，其中，所述沉积掩模框架的所述支撑部包括：

下表面，与所述支撑部的所述上表面相对，并且

所述支撑部的所述上表面包括位于距所述下表面不同的高度处的第一上表面部和第二上表面部。

9.根据权利要求8所述的沉积掩模单元，其中，

所述沉积掩模框架的在所述下表面与所述第一上表面部之间截取的第一厚度是15毫米至20毫米，并且

所述沉积掩模框架的在所述下表面与所述第二上表面部之间截取的第二厚度是12毫米至17毫米。

10.根据权利要求8所述的沉积掩模单元，其中，所述支撑部还包括将所述第一上表面部和所述第二上表面部彼此连接的中间侧表面，所述中间侧表面相对于所述下表面倾斜。

11.根据权利要求8所述的沉积掩模单元，其中，所述支撑部和所述接合部包括彼此不同的材料。

12.根据权利要求11所述的沉积掩模单元，其中，所述接合部包括铝、铜、镍和镁中的至少一种。

13.根据权利要求8所述的沉积掩模单元，其中，

所述第一上表面部距所述下表面的高度大于所述第二上表面部距所述下表面的高度，并且

所述接合部从所述第一上表面部突出。

14.一种沉积掩模单元，所述沉积掩模单元包括：

多个沉积掩模片，所述多个沉积掩模片中的每个包括多个开口；以及

沉积掩模框架，包括多个凸起部，所述多个沉积掩模片在所述多个凸起部处分别可附着到所述沉积掩模框架，所述多个凸起部在第一方向上被多个凹陷部彼此分隔开，

其中，所述多个凸起部中的每个包括：支撑部；以及接合部，从所述支撑部的上表面突出，并且

所述多个沉积掩模片之中的附着到所述沉积掩模框架的沉积掩模片被设置为与所述接合部接触并与所述支撑部分隔开。

15.根据权利要求14所述的沉积掩模单元，其中，所述多个凸起部和所述多个凹陷部在所述第一方向上彼此交替。

16.根据权利要求14所述的沉积掩模单元，其中，所述多个沉积掩模片之中的附着到所述沉积掩模框架的所述沉积掩模片在所述第一方向上彼此分隔开。