[发明专利]沉积掩模单元在审

专利信息
申请号: 202010060829.6 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN111477767A 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 赵俊豪;文敏浩;朴永浩;崔玲硕 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 田野;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沉积 单元
【说明书】:

提供了一种沉积掩模单元,所述沉积掩模单元包括:沉积掩模片,包括多个开口;以及沉积掩模框架,包括凸起部,沉积掩模片在凸起部处可附着到沉积掩模框架,凸起部包括支撑部以及从支撑部的上表面突出的接合部,接合部的上表面是弯曲的。

本申请要求于2019年1月24日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0009497号韩国专利申请的优先权,该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本公开涉及一种掩模单元,更具体地,涉及一种在显示装置的制造工艺中用于沉积有机层的掩模单元。

背景技术

随着多媒体的发展,显示装置变得越来越重要。因此,正在使用诸如有机发光显示器和液晶显示器的各种类型的显示装置。

在显示装置中,根据有机层的设计,有机发光显示器可以具有图案化的发射层结构。在具有图案化的发射层结构的有机发光显示器中,利用其发射不同颜色光的发光层分别设置在多个像素中。

在有机发光显示器中,例如,用于发射红光的红色有机发光层、用于发射绿光的绿色有机发光层和用于发射蓝光的蓝色有机发光层可以分别设置在红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素中。可以使用其中分别限定了与有机发光显示器的子像素相对应的开口的掩模单元(例如,精细金属掩模(“FMM”))将有机发光层分别图案沉积在有机发光显示器的发光区域中。

发明内容

一个或更多个实施例提供了一种沉积掩模单元,该沉积掩模单元包括相对高分辨率的图案,确保了在固定到沉积掩模框架的工艺中在拉力下对于沉积掩模的足够的接触面积,并且不被焊接穿透或撕裂。

然而,本公开的特征不限于在此所阐述的特征。通过参照下面给出的本公开的详细描述,本公开的以上特征和其他特征对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加清楚。

沉积掩模单元的实施例包括:沉积掩模片,包括多个开口;以及沉积掩模框架,包括凸起部,沉积掩模片在凸起部处可附着到沉积掩模框架,凸起部包括支撑部以及从支撑部的上表面突出的接合部,接合部的上表面是弯曲的。

在示例性实施例中,附着到沉积掩模框架的沉积掩模片可以与支撑部分隔开。

在示例性实施例中,沉积掩模片的厚度可以是约1微米(μm)至约100μm。

在示例性实施例中,接合部的上表面距支撑部的上表面的最大高度可以等于沉积掩模片的厚度。

在示例性实施例中,沉积掩模片的所述多个开口使沉积材料穿过,并且所述多个开口之中的相邻开口之间的距离是约5微米至约15微米。

在示例性实施例中,每平方英寸内的开口的数量可以是大约1000000或更多。

在示例性实施例中,接合部的上表面距支撑部的上表面的最大高度可以是约0.01毫米(mm)至约0.03mm。

在示例性实施例中,支撑部可以包括与支撑部的上表面相对的下表面,并且支撑部的上表面可以包括位于距下表面不同高度处的第一上表面部和第二上表面部。

在示例性实施例中,下表面与第一上表面部之间的第一厚度可以是约15mm至约20mm,下表面与第二上表面部之间的第二厚度可以是约12mm至约17mm。

在示例性实施例中,支撑部还可以包括将第一上表面部和第二上表面部彼此连接的中间侧表面,中间侧表面相对于下表面倾斜。

在示例性实施例中,支撑部和接合部可以包括彼此不同的材料。

在示例性实施例中,接合部可以包括铝、铜、镍和镁中的至少一种。

在示例性实施例中,第一上表面部距下表面的高度可以大于第二上表面部距下表面的高度,并且接合部可以从第一上表面部突出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010060829.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top