[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底上形成无机绝缘薄膜；

利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到无机绝缘层；其中，所述刻蚀液包括氢氟酸；

其中，所述利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到所述无机绝缘层，包括：

在栅极背离所述衬底一侧依次形成所述无机绝缘薄膜和光刻胶；

利用半色调掩模板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成完全保留部分、半保留部分和完全去除部分；所述完全去除部分与待形成的第一过孔对应，所述半保留部分与待形成的第二过孔对应，所述完全保留部分与其他区域对应；

利用所述刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，形成无机绝缘图案；

采用灰化工艺去除所述半保留部分；

利用所述刻蚀液对所述无机绝缘图案和缓冲薄膜进行刻蚀；

采用干法刻蚀对所述无机绝缘图案和所述缓冲薄膜进行刻蚀；

得到所述无机绝缘层和缓冲层，所述第一过孔露出导电层，所述第二过孔露出有源图案；其中，

沿所述无机绝缘层指向所述衬底的方向，所述第一过孔的侧壁包括第一子侧壁、第二子侧壁、以及第三子侧壁；所述第一子侧壁与水平方向之间的夹角范围为10°～30°；所述第二子侧壁与水平方向之间的夹角范围为20°～50°；所述第三子侧壁与水平方向之间的夹角范围为60°～90°。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述无机绝缘薄膜之前，所述显示基板的制备方法还包括：

依次在所述衬底上形成所述导电层、所述缓冲薄膜、以及薄膜晶体管的所述有源图案、栅绝缘层、所述栅极；

所述无机绝缘层用作所述薄膜晶体管的层间绝缘层。

3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述有源图案的材料包括金属氧化物。

4.根据权利要求2或3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，利用所述刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，形成无机绝缘图案，包括：

利用所述刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，形成所述无机绝缘图案；其中，所述无机绝缘图案中被刻蚀的部分的厚度等于所述缓冲薄膜的厚度。

5.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在采用干法刻蚀对所述无机绝缘图案进行刻蚀之前，所述无机绝缘图案中与所述第一过孔对应的部分的厚度大于0。

6.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述栅极背离所述衬底一侧依次形成源漏金属层和平坦层；

所述无机绝缘层还用作所述平坦层。

7.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述刻蚀液还包括氟化氨。

8.一种显示基板，其特征在于，由权利要求1-7任一项所述的显示基板的制备方法制备得到。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8所述的显示基板。