[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置

说明书

本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可确保刻蚀后的无机绝缘层的形貌为预先设计的尺寸。一种显示基板的制备方法，包括：在衬底上形成无机绝缘薄膜；利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到无机绝缘层；其中，所述刻蚀液包括氢氟酸。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

近年来，随着显示技术的发展，制备显示装置的工艺也越来越成熟。

显示装置包括多个过孔，以方便处于不同层的导电层之间相互电连接。

当导电层之间的绝缘层的厚度过大时，因工艺原因，过孔通常无法顺利形成。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，可确保刻蚀后的无机绝缘层的形貌为预先设计的尺寸。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种显示基板的制备方法，包括：在衬底上形成无机绝缘薄膜；利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到无机绝缘层；其中，所述刻蚀液包括氢氟酸。

可选的，在形成所述无机绝缘薄膜之前，所述显示基板的制备方法还包括：依次在所述衬底上形成导电层、缓冲薄膜、以及薄膜晶体管的有源图案、栅绝缘层、栅极；所述无机绝缘层用作所述薄膜晶体管的层间绝缘层。

可选的，利用刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，以得到所述无机绝缘层，包括：在所述栅极背离所述衬底一侧依次形成所述无机绝缘薄膜和光刻胶；利用半色调掩模板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成完全保留部分、半保留部分和完全去除部分；所述完全去除部分与待形成的第一过孔对应，所述半保留部分与待形成的第二过孔对应，所述完全保留部分与其他区域对应；利用所述刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，形成无机绝缘图案；采用灰化工艺去除所述半保留部分；利用所述刻蚀液对所述无机绝缘图案和所述缓冲薄膜进行刻蚀，得到所述无机绝缘层和缓冲层，所述第一过孔露出所述导电层，所述第二过孔露出所述有源图案。

可选的，所述有源图案的材料包括金属氧化物；在利用所述刻蚀液对所述无机绝缘图案和所述缓冲薄膜进行刻蚀后，所述显示基板的制备方法还包括：采用干法刻蚀对所述无机绝缘图案和所述缓冲薄膜进行刻蚀。

可选的，利用所述刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，形成无机绝缘图案，包括：利用所述刻蚀液对所述无机绝缘薄膜进行刻蚀，形成所述无机绝缘图案；其中，所述无机绝缘图案中被刻蚀的部分的厚度等于所述缓冲薄膜的厚度。

可选的，在采用干法刻蚀对所述无机绝缘图案进行刻蚀之前，所述无机绝缘图案中与所述第一过孔对应的部分的厚度大于0。

可选的，沿所述无机绝缘层指向所述衬底的方向，所述第一过孔的侧壁包括第一子侧壁、第二子侧壁、以及第三子侧壁；所述第一子侧壁与水平方向之间的夹角范围为10°～30°；所述第二子侧壁与水平方向之间的夹角范围为20°～50°；所述第三子侧壁与水平方向之间的夹角范围为60°～90°。

可选的，在所述栅极背离所述衬底一侧依次形成源漏金属层和平坦层；所述无机绝缘层还用作所述平坦层。

可选的，所述刻蚀液还包括氟化氨。

第二方面，提供一种显示基板，由第一方面所述的显示基板的制备方法制备得到。

第三方面，提供一种显示装置，包括第二方面所述的显示基板。

本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，通过利用刻蚀液对无机绝缘薄膜进行湿法刻蚀，同时，刻蚀液包括HF。相较于干法刻蚀，利用含有HF的刻蚀液不但可以对无机绝缘薄膜进行刻蚀，还可以避免在刻蚀的过程中损伤光刻胶图案，从而顺利完成刻蚀工艺，以确保刻蚀后的无机绝缘层的形貌为预先设计的尺寸。