[发明专利]光学测定系统和光学测定方法在审

专利信息
申请号: 202010074101.9 申请日: 2020-01-22
公开(公告)号: CN111486794A 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 冈本宗大;稻野大辅;森本晃一;田口都一;龟本智彦 申请(专利权)人: 大塚电子株式会社
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01N21/25;G01N21/45;G01N21/47;G01N21/59
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 测定 系统 方法
【说明书】:

发明提供一种光学测定系统和光学测定方法,提供一种针对在以往的光学测定装置中测定精度可能降低的样品也能够更高精度地测定光学特性的结构。光学测定系统包括:光源,其发出用于向样品照射的测定光;分光检测器,其接收由测定光在样品处产生的反射光或透射光;以及处理装置,其被输入分光检测器的检测结果。处理装置构成为能够执行以下处理:基于分光检测器的检测结果,来计算第一光谱;在第一光谱中确定与波长有关的振幅的变化满足规定条件的区间;以及使用从第一光谱去除所确定的区间的信息所得到的第二光谱,来计算样品的光学特性。

技术领域

本发明涉及一种能够测定样品的膜厚等光学特性的光学测定系统和光学测定方法。

背景技术

一直以来,已知如下一种技术:通过观测由于光干涉而出现的光,来测定样品的膜厚等光学特性。例如,日本特开2009-092454号公报公开了能够更高精度地测定具有波长取决性的多层膜试样的膜厚的多层膜分析装置等。另外,日本特开2018-205132号公报公开了能够更高速且更高精度地测定样品的膜厚的面内分布的光学测定装置等。

在使用上述这种光学测定装置来测定出液晶材料、聚合物材料(例如,PET薄膜等)等样品的膜厚的情况下,存在由于这些材料所具有的各向异性而导致测定精度降低这样的问题。另外,在对构造上具有多个厚度的样品进行了测定的情况下,也存在测定精度降低这样的问题。

发明内容

发明要解决的问题

本发明的一个目的在于提供如下结构:针对在以往的光学测定装置中测定精度可能降低的样品,也能够更高精度地测定光学特性。

本发明的某一方面的的光学测定系统包括:光源,其产生用于向样品照射的测定光;分光检测器,其接收由测定光在样品处产生的反射光或透射光;以及处理装置,其被输入分光检测器的检测结果。处理装置构成为能够执行以下处理:基于分光检测器的检测结果,来计算第一光谱;在第一光谱中确定与波长有关的振幅的变化满足规定条件的区间;以及使用从第一光谱去除所确定的区间的信息所得到的第二光谱,来计算样品的光学特性。

也可以是,进行确定的处理包括以下处理:针对第一光谱,依次设定具有预先决定的波长幅度的评价窗;以及基于各评价窗中包含的第一光谱的振幅的变化,来判断与各评价窗对应的区间是否满足规定条件。

也可以是,判断与各评价窗对应的区间是否满足规定条件的处理包括以下处理:计算第一光谱的与各评价窗对应的区间内的振幅的偏差的程度。

也可以是,在第一光谱的与各评价窗对应的区间内的振幅的偏差程度低于规定阈值的情况下,判断为与该评价窗对应的区间满足规定条件。

也可以是,评价窗的波长幅度是按样品的种类预先决定的。

也可以是,计算样品的光学特性的处理包括以下处理:基于对第二光谱进行傅里叶变换所得到的结果中出现的峰值来计算膜厚。

也可以是,计算第一光谱的处理包括以下处理:基于分光检测器的检测结果计算样品的反射率光谱,来作为第一光谱。

也可以是,计算第一光谱的处理包括以下处理:计算从基于分光检测器的检测结果计算出的样品的反射率光谱去除源自样品中包含的除测定对象以外的层的信息所得到的反射率光谱,来作为第一光谱。

也可以是,计算第一光谱的处理还包括以下处理:对样品的反射率光谱进行傅里叶变换,来计算第三光谱;确定第三光谱中的源自样品中包含的除测定对象以外的层的峰值;以及从第三光谱中去除所确定的该峰值及该峰值附近的信息,来计算第四光谱。

也可以是,计算第一光谱的处理还包括以下处理:对第四光谱进行逆傅里叶变换,来计算第一光谱。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大塚电子株式会社,未经大塚电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010074101.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top